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mots clés [ pure water machine ] rencontre 68 produits.
Machine à eau ultrapure RO EDI pour plaquettes de silicium / eau ultrapure biochimique
Article: | Inverse d'osmose de filtre d'eau |
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Débit: | 0.25~200 m³/H (Personnalisable) |
Technologie: | Prétraitement + OI |
Machine à eau pure à haute efficacité énergétique 1200L/H RO pour l'industrie alimentaire et des boissons
Débit: | 1200 L/h (personnalisable) |
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Qualité des eaux produites: | Conductivité inférieure à 10 μs/cm |
Technologie de base: | Osmose inverse (OI) à deux étages |
Machine à eau pure RO à une étape stable de 10 m3/h pour l'approvisionnement en eau de la chaudière
Capacité de production: | HJ-PWBo10T |
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Débit: | 10m ³ /h |
L'approvisionnement en électricité: | 380V |
Machine à eau pure RO commerciale de 24T/jour, systèmes de purification d'eau RO
Capacité de production: | HJ-PWHo10T |
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Débit: | 1m3/h |
L'approvisionnement en électricité: | 380V |
Rate de dessalement de la machine à eau pure RO automatique jusqu'à 99%
Débit: | 0.25~200 m³/h |
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L'approvisionnement en électricité: | 380V |
Qualité des eaux produites: | Conductivité inférieure à 1 μs/cm |
1T / 100T / 200T par heure machine de traitement de l' eau pure avec la marque RO membrane
Débit: | 1T-200T/heure |
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Nom du produit: | Équipement de traitement de l'eau pour baleines |
Les mots clés: | Système de filtrage de l'eau |
Équipement d'eau ultrapure sûr et fiable de 95 m3/h pour l'alimentation des chaudières des centrales nucléaires
Débit: | 95 m3/h (peut être personnalisé) |
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Conductivité électrique: | ≤ 0,1 μS/cm ((25°C) |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
Équipement pour l'eau pure de 2000 litres Système de filtration d'eau par osmose inverse
Productivité: | 2000 litres par heure |
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L'approvisionnement en électricité: | 380V |
Fonction: | Production de l'eau douce |
Équipement d'eau ultrapure de 85 tonnes/h pour la production d'ingrédients cosmétiques haut de gamme
Qualité de l'eau: | Résistance ≥ 15 MΩ·cm |
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Débit: | 85 m3/h (peut être personnalisé) |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
Équipement industriel à eau ultra pure pour la lithographie
Débit: | 50 m3/h (peut être personnalisé) |
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Qualité de l'eau: | Résistance ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C) |
Processus de base: | Osmose inverse + EDI + Résine de polissage |