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1時間あたり10トンの産業用超純水製造システム(レーザー冷却用)
水質: | ≥18.2 MΩ・cm ((25°C) |
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流量: | 10m³/H(カスタマイズ可能) |
基本プロセス: | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 |
Lab 2000LPH Ultrapure Water Treatment Equipment For Mass Spectrometry
流量: | 2m3/h (カスタマイズ可能) |
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耐性: | 18.2 MΩ·cm |
基本プロセス: | 二重通過逆浸透膜 + EDI |
高純度産業用水浄化装置 15m3h 高純度水システム
流量: | 15m3/h (カスタマイズ可能) |
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水質: | 抵抗性 ≥≥18.2 MΩ·cm (25°C) |
基本プロセス: | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 |