키워드 [ ultrapure water system ] 시합 52 상품.
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디스플레이 패널 세척용 80T/H 초순수 장비 턴키 프로젝트
| 유동률: | 80t/h |
|---|---|
| 수질: | 저항성 ≥5-18 .25MΩ · cm |
| 핵심프로세스: | 이중 통과 역삼 투 + EDI + 연마 수지 |
시간당 3000L 초순수 처리 시스템 (고성능 액체 크로마토그래피용)
| 유동률: | 3m³/h (사용자 정의 가능) |
|---|---|
| 수질: | 저항 (25 ° C) ≥18.25 MΩ · cm |
| 핵심프로세스: | 이중 통과 역삼 투 + EDI |
광시 발전소용 완전 자동 25m3/h 초순수 장비
| 수질: | 저항성 ≥15-18.25 MΩ · cm |
|---|---|
| 유동률: | 25m³/h (사용자 정의 가능) |
| 핵심 부품: | RO 멤브레인 모듈, EDI 장치 |
신에너지 초순수 정수 장비 대형 정수 시스템 20000L-500000L
| 유동률: | 20000L-500000L |
|---|---|
| 제품 이름: | 초순수 처리 시스템 |
| 핵심프로세스: | 이중 통과 역삼 투 + EDI + 연마 수지 |
1000L/H 초순수 장비 - 정밀 기기 이동상 준비용
| 유동률: | 1m³/h (사용자 정의 가능) |
|---|---|
| 저항률: | ≥ 18.2 MΩ · cm @ 25 ° C (기본) |
| 핵심프로세스: | 이중 통과 역삼 투 + EDI |
병원 사용 500L/시간 2단계 RO 시스템 및 EDI 순수 정수 처리 시설
| 유동률: | 500L/H (사용자 정의 가능) |
|---|---|
| 수질: | 전도도 ＜ ≤1.3 μs/cm |
| 핵심프로세스: | 이중 통과 역삼 투 + EDI |
PVDF 산업용 정수 필터 시스템 30t/H 초순수 처리 장비
| 주요 자료: | PVDF |
|---|---|
| PVDF 최대 온도 저항: | 140 ° C (단기 -150 ° C) |
| 수질: | 저항성 ≥18.2mΩ · cm |