Wszystkie produkty
słowa kluczowe [ ultrapure water system ] mecz 50 produkty.
Dostosowalny system wodociągowy 100M3/H RO EDI dla elektrowni cieplnych
| Product name: | Ultrapure water machine |
|---|---|
| Capacity: | 1T/Hour |
| Key Components: | RO Membrane Modules, EDI Units |
15M3/H Woda o wysokiej czystości i system wody dejonizowanej do czyszczenia wyświetlacza
| Nazwa produktu: | Przetwarzanie systemu obróbki wody odwrotnej osmozy |
|---|---|
| Proces podstawowy: | Podwójna żywica polerowania odwrotnej osmozy + EDI + |
| Kluczowe komponenty: | Moduły membrane, jednostki EDI |
VIDEO
200L~10000L Sprzęt czystej wody Dwuetapowy system czystej wody RO z przeciwdziałaniem zanieczyszczeniu
| Natężenie przepływu: | 0,25 ~ 200 m3/h |
|---|---|
| Materiał: | Stal nierdzewna |
| Jakość produkowanej wody: | Przewodność <1 μs/cm |
Produkcja OEM niestandardowego sprzętu do wody ultraczystej - instalacja i uruchomienie
| Zdolność produkcyjna: | własny zakład produkcyjny |
|---|---|
| Zespół instalacji i uruchomienia: | Profesjonalny zespół instalacji i uruchomienia |
| Zakres projektu: | zdolne do przeprowadzania projektów instalacyjnych i uruchamiania |
Technologia zaawansowana 50T/H Urządzenia do wody ultraczystej dla elektrowni cieplnych
| jakość wody: | Rezystywność ≥15-18,2mΩ · cm |
|---|---|
| Wskaźnik przepływu: | 50m³/h (dostosowywane) |
| Proces podstawowy: | Odwrotna osmoza + EDI + Polerowanie żywicy |
Urządzenia do uzdatniania wody ultrapure 8000gph dla przemysłu chipowego z maszyną RO + jednostką EDI
| Wskaźnik przepływu: | 30m³/h (możliwe do dostosowywania) |
|---|---|
| Rezystywność (25 ° C): | ≥18,2 MΩ · cm (teoretyczna maksymalna wartość czystej wody) |
| Proces podstawowy: | Podwójna odwrotna osmoza + EDI |
System filtracji wody ze stali nierdzewnej szyty na miarę 15m3/H, maszyna do wody ultrapure
| Wskaźnik przepływu: | 15m³/godz |
|---|---|
| Jakość produkowanej wody: | Przewodność <10 μs/cm |
| Core Technolog: | Dwustopniowa odwrócona osmoza (RO) |
10 ton na godzinę przemysłowy system uzdatniania wody ultraczystej do chłodzenia laserów
| jakość wody: | ≥18,2 MΩ ・ CM （25 ° C） |
|---|---|
| Wskaźnik przepływu: | 10 m3/h (dostosowywane) |
| Proces podstawowy: | Podwójna żywica polerowania odwrotnej osmozy + EDI + |
VIDEO
Duża skala 115m3/h Ultraczysty sprzęt wodny dla półprzewodników z modułem EDI
| jakość wody: | Rezystywność ≥15-18,25 MΩ · cm |
|---|---|
| Wskaźnik przepływu: | 115m³/h (możliwe do dostosowywania) |
| Proces podstawowy: | Podwójna żywica polerowania odwrotnej osmozy + EDI + |
System odwrotnej osmozy przemysłowej 90 kubików na godzinę + filtr modułu EDI
| jakość wody: | Rezystywność ≥15-18,25 MΩ · cm |
|---|---|
| Wskaźnik przepływu: | 90m3H (dostosowywany) |
| Proces podstawowy: | Podwójna żywica polerowania odwrotnej osmozy + EDI + |