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palavras-chave [ ro pure water machine ] Combine 64 produtos.
Equipamento de água pura personalizado de 20 m3/h para indústria química totalmente automático
| Modelo: | HJ -PWCh20T |
|---|---|
| Taxa de fluxo: | ³ /h de 20m |
| Materiais: | FPR / Personalizado |
Equipamento de osmose reversa de dois estágios de água pura 500L/h para análise laboratorial
| Modelo: | HJ - PWLa500L |
|---|---|
| Taxa de fluxo: | 500L/h |
| Fornecimento de eletricidade: | 380 V |
20 m3/h Equipamento de água pura para aquecimento por piso
| Modelo: | HJ - PWGFH20T |
|---|---|
| Taxa de fluxo: | ³ /h de 20m |
| Fornecimento de eletricidade: | 380 V |
VIDEO
Equipamento de osmose reversa de um estágio de água pura com capacidade de 8 T/hora
| Produtividade: | 8T/Hora |
|---|---|
| Materiais: | Aço inoxidável 304 |
| Ro membrana: | DOW Membrana EUA Vontron Original |
2000 litros Equipamento de água pura Sistema comercial de filtragem de água por osmose reversa
| Produtividade: | 2000 L/H |
|---|---|
| Fornecimento de eletricidade: | 380 V |
| Função: | Produzindo a água fresca |
Equipamento de água ultra pura de 95 m3/h, de segurança e fiabilidade, para a alimentação da caldeira da central nuclear
| Taxa de Fluxo: | 95 m3/h (customizável) |
|---|---|
| Conductividade elétrica: | ≤0,1 μS/cm (25°C) |
| Processos essenciais: | Osmose inversa de dupla passagem + EDI + resina de polimento |
Equipamento de água ultrapura de 85 toneladas/h para a produção de ingredientes cosméticos de ponta
| Qualidade da água: | Resistividade ≥ 15 MΩ·cm |
|---|---|
| Taxa de Fluxo: | 85m³/H (Personalizável) |
| Processos essenciais: | Osmose inversa de dupla passagem + EDI + resina de polimento |
Equipamento Industrial de Água Ultra Pura para Litografia
| Taxa de Fluxo: | 50m³/H (Personalizável) |
|---|---|
| Qualidade da água: | Resistividade ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C) |
| Processos essenciais: | Osmose inversa + EDI + resina de polimento |
Equipamento de Água Ultra Pura 1000L/H para Preparação de Fase Móvel de Instrumentos de Precisão
| Taxa de Fluxo: | 1m³/h (Personalizável) |
|---|---|
| Resistividade: | ≥ 18,2 MΩ·cm @ 25°C (base) |
| Processos essenciais: | Osmose Reversa de Duplo Passe + EDI |
Sistema de Água Pura por Osmose Reversa de 20M3/H para Controle Automatizado de Alimentos e Bebidas
| Taxa de Fluxo: | 20m³/h (personalizável) |
|---|---|
| Qualidade da água produzida: | Condutividade < 10 μs/cm |
| Tecnologia de núcleo: | Osmose Reversa (OR) de Duplo Estágio |