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Equipamento Industrial de Água Ultra Pura para Litografia

  • Custom Made 20T/H Industrial Ultra Pure Water Equipment For Lithography
  • Custom Made 20T/H Industrial Ultra Pure Water Equipment For Lithography
Lugar de origem Shenzhen, China
Marca HongJie
Certificação ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Número do modelo HJ-UPWSe50T
Quantidade de ordem mínima >= 1 conjunto
Preço US$44000~US$44500
Detalhes da embalagem Caixa de madeira padrão de exportação
Tempo de entrega 1-7 dias úteis (dependem da existência de matérias-primas)
Termos de pagamento L/C,D/P,T/T,Western union
Habilidade da fonte >300 conjuntos/mês

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Detalhes do produto
Taxa de Fluxo 50m³/H (Personalizável) Qualidade da água Resistividade ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C)
Processos essenciais Osmose inversa + EDI + resina de polimento Componentes-chave Módulos de Membrana RO, Unidades EDI
Fornecimento de eletricidade 380 V/220 V Serviço pós-venda garantia de 2-ano
Modo de funcionamento Totalmente automático Características do produto Qualidade estável da água, baixo custo de exploração, desempenho fiável
TOC < 0,5 ppb (necessidade de fluido de imersão < 1 ppt) Materiais particulados > 0,05 μm de partículas < 1 por ml
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Equipamento de água ultra pura para litografia

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Equipamento de água ultrapura de 20 T/H

,

Máquina de água ultra pura feita sob medida
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Descrição de produto

I.Visão geral
A água ultrapura desempenha um papel indispensável e de importância crítica no processo de litografia.e água ultra-pura de qualidade litográfica serve como garantia fundamental para a evolução contínua da Lei de MooreA água ultrapura (UPW), com o seu teor extremamente baixo de impurezas, é uma água muito pura.é o meio ideal para satisfazer estes requisitos rigorososA sua máxima pureza é a garantia fundamental para garantir padrões de litografia precisos e sem defeitos e altas taxas de rendimento.

 

II.Processo
Raw water → Multi-stage filtration → Reverse osmosis (RO) → Electrodeionization (EDI) → UV-ozone synergistic oxidation → Membrane degassing → Dual-stage mixed-bed polishing → Terminal filtration → Nitrogen-sealed water tank

 

III.Parâmetros

Parâmetro Valor exigido
Resistividade ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C)
Total de carbono orgânico (TOC) < 0,5 ppb (necessidade de fluido de imersão < 1 ppt)
Matéria particulada > 0,05 μm de partículas < 1 por ml
Oxigénio dissolvido (DO) < 5 ppb
Conteúdo bacteriano < 0,01 UFC/mL
Dióxido de silício (SiO2) < 1 ppb
Íons de boro/sódio < 10 ppt

 

IV.Escenários de aplicação
Limpeza de wafer
Lavagem pós-desenvolvimento
Diluir e preparar produtos fotoresistentes/químicos
Limpeza de equipamentos e componentes

 

V. Aqui está uma orientação para você obter uma cotação adequada
Diga-nos a água crua/fonte de água ((água de torneira, água de poço ou água do mar, etc.)
Fornecer relatório de análise de água ((TDS, condutividade ou resistividade, etc.)
Capacidade de produção necessária ((5m3/H, 50m3/H, ou 500m3/H, etc.)
Para que é utilizada a água pura (industrial, alimentar, agrícola, etc.)?

 

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Equipamento de água ultrapura

Sistema de tratamento de água pura

Sistema de água purificada