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जल पुनः उपयोग के लिए अल्ट्राफिल्ट्रेशन प्रणाली 70t/h नगरपालिका/औद्योगिक अपशिष्ट जल उपचार संयंत्र
| क्षमता: | 70m and/h （अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| कोर प्रक्रिया: | UF,RO |
| प्रेरक बल: | विद्युत शक्ति |
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1500L/H EDI अतिशुद्ध जल प्रणाली स्टेनलेस स्टील 304
| Voltage: | 380V, 220V/50HZ etc; (Power supply can be Customized) |
|---|---|
| warranty: | 1 Year |
| Control: | Automatic or manual |
ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स क्षेत्र के लिए उच्च क्षमता 120m3/H औद्योगिक अतिशुद्ध जल शोधन प्रणाली
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता .15-18.25 M · · cm |
|---|---|
| प्रवाह दर: | 120m and/h (अनुकूलन योग्य) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
एडी मॉड्यूल के साथ सिलिकॉन वेफर की सफाई के लिए 110m3/h अल्ट्राशुद्ध जल उपचार संयंत्र
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता .18.18 Mω · cm @ 25 ° C |
|---|---|
| प्रवाह दर: | 110m and/h (अनुकूलन योग्य) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
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इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के लिए 70T/घंटा औद्योगिक अल्ट्राप्योर वाटर सिस्टम
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता .218.2 Mω · सेमी ° 25 ° C） |
|---|---|
| प्रवाह दर: | 70m and/h (अनुकूलन योग्य) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
85 टन/घंटा अल्ट्रा प्योर वाटर उपकरण उच्च अंत कॉस्मेटिक सामग्री के उत्पादन के लिए
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता of 15 एम · सेमी |
|---|---|
| प्रवाह दर: | 85m and/h (अनुकूलन योग्य) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
यूपीवीसी औद्योगिक जल फिल्टर सिस्टम 150m3h अल्ट्रा प्योर वाटर ट्रीटमेंट उपकरण
| मुख्य सामग्री: | यूपीवीसी |
|---|---|
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता and 15 - 17 Mω · cm |
| प्रवाह दर: | 150T/H (अनुकूलन योग्य) |
पीवीडीएफ औद्योगिक जल फिल्टर प्रणाली 30t/H अल्ट्रा शुद्ध जल उपचार उपकरण
| मुख्य सामग्री: | पीवीडीएफ |
|---|---|
| पीवीडीएफ अधिकतम तापमान प्रतिरोध: | 140 डिग्री सेल्सियस (लघु - शब्द 150 डिग्री सेल्सियस) |
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता .218.2mω · सेमी |
1000L/H अल्ट्रा प्योर वाटर इक्विपमेंट फॉर मोबाइल फेज़ प्रिपरेशन ऑफ़ प्रेसिजन इंस्ट्रूमेंट्स
| प्रवाह दर: | 1m g/h (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| प्रतिरोधकता: | ≥ 18.2 Mω · cm @ 25 ° C (मूल) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |
सटीक यंत्रों के रिक्त नियंत्रण के लिए 500 लीटर/घंटे का अति शुद्ध जल उपकरण
| प्रवाह दर: | 500L/H (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| प्रतिरोधकता: | ≥ 18.2 Mω · cm @ 25 ° C |
| कोर प्रक्रिया: | रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |