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mots clés [ reverse osmosis membrane ] rencontre 188 produits.
Système d'ultrafiltration pour la réutilisation de l'eau 70 t/h Usine de traitement des eaux usées municipales/industrielles
| Capacité: | 70 m3/h ((Customisable) |
|---|---|
| Processus de base: | UF,RO |
| La force motrice: | Énergie électrique |
VIDEO
Système d'eau ultrapure EDI 1500L/H en acier inoxydable 304
| Voltage: | 380V, 220V/50HZ etc; (Power supply can be Customized) |
|---|---|
| warranty: | 1 Year |
| Control: | Automatic or manual |
Système industriel de purification d'eau ultrapure de haute capacité 120 m3/h pour le domaine de l'optoélectronique
| Qualité de l'eau: | Résistance ≥ 15 à 18,25 MΩ·cm |
|---|---|
| Débit: | 120 m3/h (peut être personnalisé) |
| Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
110 m3/h usine de traitement de l'eau ultrapure pour le nettoyage des plaquettes de silicium avec le module Edi
| Qualité de l'eau: | Résistance ≥ ≥ 18,18 MΩ·cm @ 25°C |
|---|---|
| Débit: | 110 m³/H (Personnalisable) |
| Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
VIDEO
Systèmes d'eau ultrapure industriels de 70T/heure pour l'industrie électronique
| Qualité de l'eau: | Résistance ≥ 18,2 MΩ·cm ((25°C) |
|---|---|
| Débit: | 70 m³/H (Personnalisable) |
| Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
Équipement d'eau ultrapure de 85 tonnes/h pour la production d'ingrédients cosmétiques haut de gamme
| Qualité de l'eau: | Résistance ≥ 15 MΩ·cm |
|---|---|
| Débit: | 85 m3/h (peut être personnalisé) |
| Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
Système de filtration de l'eau industriel en UPVC 150m3h Équipement de traitement de l'eau ultra pure
| Matériau principal: | upvc |
|---|---|
| Qualité de l'eau: | Résistance ≥ 15 - 17 MΩ·cm |
| Débit: | 150 T/H (peut être personnalisé) |
Système de filtration d'eau industriel PVDF 30t/h Équipement de traitement d'eau ultra pure
| Matériau principal: | PVDF |
|---|---|
| Résistance à la température maximale du PVDF: | 140°C (court terme 150°C) |
| Qualité de l'eau: | Résistance ≥ 18,2 MΩ·cm |
Équipement d'eau ultra pure de 1000 L/H pour la préparation de phases mobiles d'instruments de précision
| Débit: | 1m3/h (personnalisable) |
|---|---|
| Résistance: | ≥ 18,2 MΩ·cm à 25°C (de base) |
| Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI |
Équipement d'eau ultrapure 500 l/h pour contrôles vierges d'instruments de précision
| Débit: | 500 l/h (Personnalisable) |
|---|---|
| Résistance: | ≥ 18,2 MΩ·cm @ 25°C |
| Processus de base: | Osmose inverse + EDI |