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कीवर्ड [ ultrapure water equipment ] मेल खाते हैं 47 उत्पादों.
उच्च प्रदर्शन 80 टन/घंटा अल्ट्रा प्योर वाटर उपकरण फोटोवोल्टिक सेल के उत्पादन के लिए
| प्रतिरोधकता: | ≥18.18 Mω · cm (25 ° C) |
|---|---|
| प्रवाह दर: | 80M/H (अनुकूलन योग्य) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
316 स्टेनलेस स्टील जल उपचार संयंत्र 30 टन/घंटा औद्योगिक अतिशुद्ध जल प्रणाली
| सामग्री: | 316 स्टेनलेस स्टील |
|---|---|
| प्रवाह दर: | 30M/H (अनुकूलन योग्य) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
सटीक यंत्रों के रिक्त नियंत्रण के लिए 500 लीटर/घंटे का अति शुद्ध जल उपकरण
| प्रवाह दर: | 500L/H (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| प्रतिरोधकता: | ≥ 18.2 Mω · cm @ 25 ° C |
| कोर प्रक्रिया: | रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |
100m3/H अल्ट्रा शुद्ध जल प्रणाली औद्योगिक जल शोधक UF+RO+EDI इकाइयों के साथ
| ब्रांड: | हांगजी |
|---|---|
| क्षमता: | 100m³/घंटा |
| प्रतिरोधकता: | ≥18.18 Mω · cm (25 ° C) |
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अल्ट्रा प्योर वाटर मशीन आरओ ईडीआई सिस्टम सिलिकॉन वेफर्स / बायोकेमिकल अल्ट्राप्योर वाटर के लिए
| पद: | जल फ़िल्टर ऑस्मोसिस रिवर्स |
|---|---|
| प्रवाह दर: | 0.25 ~ 200m h/h (अनुकूलन योग्य) |
| प्रौद्योगिकी: | प्रीट्रीटमेंट + आरओ |
15M3/H डिस्प्ले सफाई के लिए उच्च शुद्धता वाला पानी और डीआयनाइज्ड वाटर सिस्टम
| उत्पाद का नाम: | जल उपचार प्रणाली प्रसंस्करण रिवर्स ऑस्मोसिस |
|---|---|
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
| ज़रूरी भाग: | आरओ मेम्ब्रेन मॉड्यूल, ईडीआई इकाइयाँ |
दो-चरणीय रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई प्लांट के साथ 300L/H अल्ट्रा प्योर वाटर सिस्टम
| प्रवाह दर: | 300L/H (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| उत्पाद का नाम: | अति शुद्ध जल प्रणाली |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |
लेजर कूलिंग के लिए 10 टन प्रति घंटे औद्योगिक अति शुद्ध जल शुद्धिकरण प्रणाली
| पानी की गुणवत्ता: | ≥18.2 Mω ・ CM ° 25 ° C） |
|---|---|
| प्रवाह दर: | 10m the/h (अनुकूलन योग्य) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
कस्टम जल उपचार 30 टन/घंटा सीएमपी पॉलिशिंग द्रव के लिए अल्ट्रा शुद्ध जल प्रणाली
| प्रवाह दर: | 30t/h (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता .218.2 Mω · cm (25 ° C) |
| टीओसी: | ≤1 पीपीबी |
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उच्च शुद्धता औद्योगिक जल शोधन संयंत्र 15m3h अल्ट्रा शुद्ध जल प्रणाली इलेक्ट्रोप्लेटिंग समाधान के लिए
| प्रवाह दर: | 15M/H (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता .218.2 Mω · cm (25 ° C) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |