कस्टम जल उपचार 30 टन/घंटा सीएमपी पॉलिशिंग द्रव के लिए अल्ट्रा शुद्ध जल प्रणाली

I. अवलोकन
अति-शुद्ध जल रासायनिक-यांत्रिक पॉलिशिंग (सीएमपी) पॉलिशिंग समाधानों का एक अनिवार्य मुख्य घटक है, जिसकी शुद्धता सीधे पॉलिशिंग समाधान और चिप उपज के प्रदर्शन को निर्धारित करती है। सेमीकंडक्टर निर्माण में, सीएमपी पॉलिशिंग समाधानों को नैनोमीटर-स्तर के समतलीकरण की आवश्यकताओं को पूरा करना चाहिए, और अति-शुद्ध जल इस अनुप्रयोग में एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाता है और सख्त तकनीकी आवश्यकताओं को पूरा करता है। 
सीएमपी पॉलिशिंग समाधानों में, अति-शुद्ध जल न केवल एक विलायक है बल्कि एक सक्रिय घटक भी है जो पॉलिशिंग एकरूपता, दोष दर और चिप विश्वसनीयता को निर्धारित करता है। SEMI F63-1109 मानक के अनुरूप एक अति-शुद्ध जल प्रणाली उन्नत प्रक्रियाओं (7nm और उससे कम) में 95% से अधिक की उपज दर प्राप्त करने की आधारशिला है।

II. मानक प्रक्रिया
नगरपालिका का नल का पानी → पूर्व उपचार (मल्टी - मीडिया फ़िल्टरेशन) → सक्रिय कार्बन सोखना (अवशिष्ट क्लोरीन हटाना) → दो - चरण आरओ → ईडीआई (इलेक्ट्रोडीओनाइजेशन) निरंतर डीओनाइजेशन → मिश्रित बिस्तर पॉलिशिंग → 185/254nm यूवी→ 0.05μm अल्ट्राफिल्ट्रेशन → डीगैसिंग झिल्ली → नाइट्रोजन - सीलबंद स्टोरेज टैंक → 316L स्टेनलेस स्टील पाइपिंग → सीएमपी घोल उत्पादन लाइन

III. पैरामीटर

IV. सीएमपी पॉलिशिंग तरल पदार्थ में अल्ट्राप्योर पानी के मुख्य कार्य
विलायक वाहक
प्रतिक्रिया माध्यम
संदूषण नियंत्रण

V. यहां आपके लिए एक उचित उद्धरण प्राप्त करने के लिए एक दिशानिर्देश दिया गया है
हमें कच्चे पानी/पानी का स्रोत बताएं (नल का पानी, कुएं का पानी, या समुद्र का पानी, आदि)
पानी विश्लेषण रिपोर्ट प्रदान करें (टीडीएस, चालकता, या प्रतिरोधकता, आदि)
आवश्यक उत्पादन क्षमता (5m³/H, 50m³/H, या 500m³/H, आदि)
शुद्ध पानी का उपयोग किस लिए किया जाता है (औद्योगिक, खाद्य और पेय पदार्थ, या कृषि, आदि)