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उच्च शुद्धता औद्योगिक जल शोधन संयंत्र 15m3h अल्ट्रा शुद्ध जल प्रणाली इलेक्ट्रोप्लेटिंग समाधान के लिए
| प्रवाह दर: | 15M/H (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता .218.2 Mω · cm (25 ° C) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
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खाद्य और पेय शुद्ध जल के लिए 75M3/H RO जल शोधन उपकरण
| प्रवाह दर: | 75मी³/घंटा |
|---|---|
| प्रकार: | शुद्ध जल उपचार प्रणाली |
| मूल तकनीकी: | डबल-स्टेज रिवर्स ऑस्मोसिस (आरओ) |
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पूर्ण स्वचालित औद्योगिक आरओ प्लांट 50m3/घंटा रिवर्स ऑस्मोसिस जल निस्पंदन प्रणाली
| प्रवाह दर: | 50m the/h (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| उत्पादित पानी की गुणवत्ता: | चालकता <10μs/सेमी |
| मूल तकनीकी: | रिवर्स ऑस्मोसिस (आरओ) |
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आरओ जल उपचार प्रणाली 15m3/H पीएलसी नियंत्रित आरओ जल फिल्टर प्रणाली
| प्रवाह दर: | 15M/H (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| उत्पादित पानी की गुणवत्ता: | चालकता <10μs/सेमी |
| मूल तकनीकी: | डबल-स्टेज रिवर्स ऑस्मोसिस (आरओ) |
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एकल चरण 2000LPH आरओ जल उपचार प्रणाली औद्योगिक जल फिल्टर मशीन
| नाम: | रिवर्स ऑस्मोसिस जल उपचार प्रणाली |
|---|---|
| प्रवाह दर: | 2000 एलपीएच |
| मूल तकनीकी: | डबल-स्टेज रिवर्स ऑस्मोसिस (आरओ) |
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1T / घंटा, 100T / घंटा, 200T प्रति घंटा शुद्ध जल उपचार मशीन ब्रांड RO झिल्ली के साथ
| प्रवाह दर: | 1T-200t/घंटा |
|---|---|
| उत्पाद का नाम: | व्हेल जल उपचार उपकरण |
| कुंजी शब्द: | वाटर फिल्टर सिस्टम बड़े उद्योग |
दो-चरणीय रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई प्लांट के साथ 300L/H अल्ट्रा प्योर वाटर सिस्टम
| प्रवाह दर: | 300L/H (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| उत्पाद का नाम: | अति शुद्ध जल प्रणाली |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |
कस्टम जल उपचार 30 टन/घंटा सीएमपी पॉलिशिंग द्रव के लिए अल्ट्रा शुद्ध जल प्रणाली
| प्रवाह दर: | 30t/h (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता .218.2 Mω · cm (25 ° C) |
| टीओसी: | ≤1 पीपीबी |
यूपीवीसी औद्योगिक जल फिल्टर सिस्टम 150m3h अल्ट्रा प्योर वाटर ट्रीटमेंट उपकरण
| मुख्य सामग्री: | यूपीवीसी |
|---|---|
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता and 15 - 17 Mω · cm |
| प्रवाह दर: | 150T/H (अनुकूलन योग्य) |
लेजर कूलिंग के लिए 10 टन प्रति घंटे औद्योगिक अति शुद्ध जल शुद्धिकरण प्रणाली
| पानी की गुणवत्ता: | ≥18.2 Mω ・ CM ° 25 ° C） |
|---|---|
| प्रवाह दर: | 10m the/h (अनुकूलन योग्य) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |