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高性能液体クロマトグラフィー用3000L/時超純水処理システム
| 流量: | 3m³/h (カスタマイズ可能) |
|---|---|
| 水質: | 抵抗力 (25°C) ≥18.25 MΩ·cm |
| 基本プロセス: | 二重通過逆浸透膜 + EDI |
1時間あたり10トンの産業用超純水製造システム（レーザー冷却用）
| 水質: | ≥18.2 MΩ・cm ((25°C) |
|---|---|
| 流量: | 10m³/H（カスタマイズ可能） |
| 基本プロセス: | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 |
Lab 2000LPH Ultrapure Water Treatment Equipment For Mass Spectrometry
| 流量: | 2m3/h (カスタマイズ可能) |
|---|---|
| 耐性: | 18.2 MΩ·cm |
| 基本プロセス: | 二重通過逆浸透膜 + EDI |
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高純度産業用水浄化装置 15m3h 高純度水システム
| 流量: | 15m3/h (カスタマイズ可能) |
|---|---|
| 水質: | 抵抗性 ≥≥18.2 MΩ·cm (25°C) |
| 基本プロセス: | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 |