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110m3/H 超純水処理プラント(シリコンウェーハ洗浄用、EDIモジュール付き)
水質: | 抵抗性 ≥≥18.18 MΩ·cm @ 25°C |
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流量: | 110m³/H(カスタマイズ可能) |
基本プロセス: | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 |
PLCコントローラー内蔵型工業用水浄化システム 60m3/H 超純水処理システム UF+RO+EDI+UV
水質: | 抵抗率 ≥15-18.25 MΩ·cm |
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流量: | 60m3/h (カスタマイズ可能) |
動作モード: | 全自動 |
高容量 120m3/H 産業用超純水浄化システム 光電子分野
水質: | 抵抗率 ≥15-18.25 MΩ·cm |
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流量: | 120m3/h (カスタマイズ可能) |
基本プロセス: | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 |