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PVDF 산업용 정수 필터 시스템 30t/H 초순수 처리 장비
| 주요 자료: | PVDF |
|---|---|
| PVDF 최대 온도 저항: | 140 ° C (단기 -150 ° C) |
| 수질: | 저항성 ≥18.2mΩ · cm |
CE/ISO 5000LPH 원자 흡수 분광법(AAS)용 산업용 정수기
| 유동률: | 5m³/h (사용자 정의 가능) |
|---|---|
| 수질: | 저항 (25 ° C) ≥18.24 MΩ · cm |
| 핵심프로세스: | 이중 통과 역삼 투 + EDI |
시간당 3000L 초순수 처리 시스템 (고성능 액체 크로마토그래피용)
| 유동률: | 3m³/h (사용자 정의 가능) |
|---|---|
| 수질: | 저항 (25 ° C) ≥18.25 MΩ · cm |
| 핵심프로세스: | 이중 통과 역삼 투 + EDI |
85톤/시간 초순수 화장품 원료 생산 설비
| 수질: | 저항성 ≥ 15 MΩ · cm |
|---|---|
| 유동률: | 85m³/h (사용자 정의 가능) |
| 핵심프로세스: | 이중 통과 역삼 투 + EDI + 연마 수지 |
레이저 냉각용 산업용 초순수 정화 시스템 시간당 10톤
| 수질: | ≥18.2 MΩ ・ cm − 25 ° C 찾고 |
|---|---|
| 유동률: | 10m³/h (사용자 정의 가능) |
| 핵심프로세스: | 이중 통과 역삼 투 + EDI + 연마 수지 |
1000L/H 초순수 장비 - 정밀 기기 이동상 준비용
| 유동률: | 1m³/h (사용자 정의 가능) |
|---|---|
| 저항률: | ≥ 18.2 MΩ · cm @ 25 ° C (기본) |
| 핵심프로세스: | 이중 통과 역삼 투 + EDI |
정밀 기기의 빈 컨트롤을 위한 500l/H 초순수 장비
| 유동률: | 500L/H (사용자 정의 가능) |
|---|---|
| 저항률: | ≥ 18.2 MΩ · cm @ 25 ° C |
| 핵심프로세스: | 역삼 투 + EDI |
VIDEO
고순도 산업용 정수 설비 15m3h 초순수 시스템, 전기도금 용액용
| 유동률: | 15m³/h (사용자 정의 가능) |
|---|---|
| 수질: | 저항 ≥18.2 MΩ · cm (25 ° C) |
| 핵심프로세스: | 이중 통과 역삼 투 + EDI + 연마 수지 |