| Наименование марки: | HongJie |
| Номер модели: | HJ-UPWSe80T |
| Могил: | >= 1 серия |
| Цена: | US$176200~US$181500 |
| Условия оплаты: | L/C, D/P, T/T, Western Union |
| Способность снабжения: | >300 комплектов/месяц |
Высокопроизводительное оборудование для получения сверхчистой воды производительностью 80 тонн/час для производства фотоэлектрических элементов
I. Обзор
Сверхчистая вода является незаменимым ключевым элементом в производстве фотоэлектрических солнечных элементов, и ее чистота напрямую влияет на эффективность преобразования фотоэлектрической энергии, выход продукции и долгосрочную надежность элементов. Сверхчистая вода служит краеугольным камнем качества производства фотоэлектрических элементов (чистота очистки и текстурирования кремниевых пластин напрямую определяет эффективность элементов, при этом дефект качества воды в 1% приводит к потере эффективности ≥0,5%), оптимизации затрат (передовые процессы RO-EDI-полировки снижают стоимость производства воды на единицу продукции на 40% и увеличивают выход продукции до >99%), а также технологическим инновациям (прорыв в точности ультрафильтрационной мембраны (0,02 μм), полировка смолой ядерного класса и циркуляция с азотным уплотнением становятся стандартными функциями процессов следующего поколения).
Отраслевой консенсус: оборудование для сверхчистой воды составляет менее 2% от стоимости производственной линии фотоэлектрических элементов, но дефекты качества воды могут привести к потерям от брака, достигающим десятков миллионов — «Качество воды — невидимая жизненная линия производства фотоэлектрических элементов».
II. Процесс
Исходная вода → Предварительная обработка → Двухступенчатый обратный осмос (RO) → Электродеионизация (EDI) → Полировочный смешанный слой → Финишная очистка
III. Параметры
| Категория параметра | Стандартное требование | |||
| Удельное сопротивление | ≥18,18 MΩ·см (25°C) | |||
| Общий органический углерод (TOC) | ≤0,5 ppb | |||
| Ионы металлов | ‘- Na⁺/K⁺: <0,1 ppt | |||
| - Fe/Cu/Al: <0,05 ppt | ||||
| Анионы | - Cl⁻: <0,1 ppb | |||
| - SO₄²⁻: <0,2 ppb | ||||
| Твердые частицы | >0,05 μм: ≤1 частица/мл | |||
| Растворенный кислород (DO) | ≤2 ppb | |||
| Микроорганизмы | <1 КОЕ/1000 мл | |||
| Диоксид кремния | ≤0,2 ppb (коллоидное + растворенное состояние) | |||
IV. Применение сверхчистой воды в производстве фотоэлектрических элементов
Очистка кремниевых пластин
Процесс текстурирования
Резка и очистка кремниевых слитков
Подготовка электродов
V. Вот руководство для получения надлежащего предложения
Сообщите нам исходную воду/источник воды (водопроводная вода, вода из скважины или морская вода и т. д.)
Предоставьте отчет об анализе воды (TDS, проводимость или удельное сопротивление и т. д.)
Требуемая производительность (5 м³/ч, 50 м³/ч или 500 м³/ч и т. д.)
Для чего используется чистая вода (промышленность, продукты питания и напитки или сельское хозяйство и т. д.)