Подробная информация о продукции

Created with Pixso. Дом Created with Pixso. продукты Created with Pixso.
Оборудование для сверхчистой воды
Created with Pixso.

Высокопроизводительное оборудование с ультрачистой водой мощностью 80 т/ч для производства фотоэлектрических элементов

Высокопроизводительное оборудование с ультрачистой водой мощностью 80 т/ч для производства фотоэлектрических элементов

Наименование марки: HongJie
Номер модели: HJ-UPWSe80T
Могил: >= 1 серия
Цена: US$176200~US$181500
Условия оплаты: L/C, D/P, T/T, Western Union
Способность снабжения: >300 комплектов/месяц
Детальная информация
Место происхождения:
Шэньчжэнь, Китай
Сертификация:
ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Сопротивляемость:
≥18.18 MΩ·см (25°C)
Степень потока:
80 м3/ч (настраиваемая)
Основной процесс:
Двухступенчатый обратный осмос + ЭДИ + Финишная смола
Ключевые компоненты:
Модули обратного осмоса, установки электродиализа
Электроснабжение:
380В/220В
Послепродажное обслуживание:
2-летняя гарантия
Режим работы:
Полностью автоматический
ПОК:
≤ 0,5 ppb
Твердые частицы:
>0.05 мкм: ≤1 частица/мл
Микроорганизмы:
<1 КОЕ/1000 мл
Упаковывая детали:
Экспорт стандартный деревянный корпус
Выделить:

Оборудование для сверхчистой воды 80 т/ч

,

Высокопроизводительное оборудование для сверхчистой воды

,

Очистка сверхчистой воды 80 т/ч

Описание продукта

Высокопроизводительное оборудование для получения сверхчистой воды производительностью 80 тонн/час для производства фотоэлектрических элементов

 

I. Обзор
Сверхчистая вода является незаменимым ключевым элементом в производстве фотоэлектрических солнечных элементов, и ее чистота напрямую влияет на эффективность преобразования фотоэлектрической энергии, выход продукции и долгосрочную надежность элементов. Сверхчистая вода служит краеугольным камнем качества производства фотоэлектрических элементов (чистота очистки и текстурирования кремниевых пластин напрямую определяет эффективность элементов, при этом дефект качества воды в 1% приводит к потере эффективности ≥0,5%), оптимизации затрат (передовые процессы RO-EDI-полировки снижают стоимость производства воды на единицу продукции на 40% и увеличивают выход продукции до >99%), а также технологическим инновациям (прорыв в точности ультрафильтрационной мембраны (0,02 μм), полировка смолой ядерного класса и циркуляция с азотным уплотнением становятся стандартными функциями процессов следующего поколения). 
Отраслевой консенсус: оборудование для сверхчистой воды составляет менее 2% от стоимости производственной линии фотоэлектрических элементов, но дефекты качества воды могут привести к потерям от брака, достигающим десятков миллионов — «Качество воды — невидимая жизненная линия производства фотоэлектрических элементов».

 

II. Процесс
Исходная вода → Предварительная обработка → Двухступенчатый обратный осмос (RO) → Электродеионизация (EDI) → Полировочный смешанный слой → Финишная очистка

 

III. Параметры

Категория параметра Стандартное требование
Удельное сопротивление ≥18,18 MΩ·см (25°C)
Общий органический углерод (TOC) ≤0,5 ppb
Ионы металлов ‘- Na⁺/K⁺: <0,1 ppt
- Fe/Cu/Al: <0,05 ppt
Анионы - Cl⁻: <0,1 ppb
- SO₄²⁻: <0,2 ppb
Твердые частицы >0,05 μм: ≤1 частица/мл
Растворенный кислород (DO) ≤2 ppb
Микроорганизмы <1 КОЕ/1000 мл
Диоксид кремния ≤0,2 ppb (коллоидное + растворенное состояние)

 

 

IV. Применение сверхчистой воды в производстве фотоэлектрических элементов
Очистка кремниевых пластин
Процесс текстурирования
Резка и очистка кремниевых слитков
Подготовка электродов

 

V. Вот руководство для получения надлежащего предложения
Сообщите нам исходную воду/источник воды (водопроводная вода, вода из скважины или морская вода и т. д.)
Предоставьте отчет об анализе воды (TDS, проводимость или удельное сопротивление и т. д.)
Требуемая производительность (5 м³/ч, 50 м³/ч или 500 м³/ч и т. д.)
Для чего используется чистая вода (промышленность, продукты питания и напитки или сельское хозяйство и т. д.)