-
Оборудование для чистой воды
-
Оборудование для сверхчистой воды
-
Системы обратного осмоса
-
Деионизированная система водообеспечения
-
Системы ультрафильтрации
-
Системы смягчения воды
-
Возобновляемые водные системы
-
Системы очистки сточных вод
-
Системы опреснения морской воды
-
Аксессуары для оборудования для очистки воды
Промышленное оборудование для литографии с ультрачистой водой
Место происхождения | Шэньчжэнь, Китай |
---|---|
Фирменное наименование | HongJie |
Сертификация | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
Номер модели | HJ-UPWSe50T |
Количество мин заказа | >= 1 серия |
Цена | US$44000~US$44500 |
Упаковывая детали | Экспорт стандартный деревянный корпус |
Время доставки | 1-7 рабочих дней (зависит от запасов сырья) |
Условия оплаты | L/C, D/P, T/T, Western Union |
Поставка способности | >300 комплектов/месяц |

Свяжитесь со мной для бесплатных образцов и купонов.
whatsapp:0086 18588475571
WeChat: 0086 18588475571
Skype: sales10@aixton.com
Если у вас есть какие-либо проблемы, мы предоставляем круглосуточную онлайн-помощь.
xСтепень потока | 50 м³/ч (Настраиваемый) | Качество воды | Удельное сопротивление ≥ 18.18 MΩ·см (25°C) |
---|---|---|---|
Основной процесс | Обратный осмос + EDI + полировальная смола | Ключевые компоненты | Модули обратного осмоса, установки электродиализа |
Электроснабжение | 380В/220В | Послепродажное обслуживание | 2-летняя гарантия |
Режим работы | Полностью автоматический | Характеристики продукта | Стабильное качество воды, низкие эксплуатационные затраты, надежные показатели |
ПОК | <0.5 частей на миллиард (требование к иммерсионной жидкости <1 части на триллион) | Частицы | Частицы > 0,05 мкм < 1 на мл |
Выделить | Ультрачистое водное оборудование для литографии,Оборудование для сверхчистой воды 20 Т/ч,Специально изготовленная машина для сверхчистой воды |
I.Обзор
Ультрачистая вода играет незаменимую и критически важную роль в процессе литографии.и сверхчистая вода для литографии служит основополагающей гарантией для дальнейшей эволюции закона МураУльтрачистая вода (УПВ), с ее чрезвычайно низким содержанием примесей,является идеальной средой для удовлетворения этих строгих требованийЕго абсолютная чистота является основной гарантией для обеспечения точных, бездефектных рисунков литографии и высоких показателей урожайности.
II.Процесс
Raw water → Multi-stage filtration → Reverse osmosis (RO) → Electrodeionization (EDI) → UV-ozone synergistic oxidation → Membrane degassing → Dual-stage mixed-bed polishing → Terminal filtration → Nitrogen-sealed water tank
III.Параметры
Параметр | Требуемая стоимость |
Сопротивляемость | ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C) |
Общий органический углерод (TOC) | < 0,5 ppb (потребность водородной жидкости для погружения < 1 ppt) |
Частичные вещества | Частицы > 0,05 мкм < 1 на мл |
Растворенный кислород (DO) | < 5 ppb |
Содержание бактерий | < 0,01 CFU/mL |
Диоксид кремния (SiO2) | < 1 ppb |
Ионы бора/натрия | < 10 ppt |
IV.Сценарии применения
Очистка пластин
Промывка после развития
Разведение и приготовление фоторезистентных/химических веществ
Очистка оборудования и компонентов
V. Вот руководство для вас, чтобы получить правильную цитату
Укажите нам сырую воду/источник воды ((вода из крана, скважина или морская вода и т.д.)
Предоставьте отчет об анализе воды ((TDS, проводимость или сопротивляемость и т.д.)
Необходимая производственная мощность ((5m3/h, 50m3/h или 500m3/h и т.д.)
Для чего используется чистая вода (промышленная, пищевая, сельскохозяйственная и т.д.)