Подробная информация о продукции

Created with Pixso. Дом Created with Pixso. продукты Created with Pixso.
Деионизированная система водообеспечения
Created with Pixso.

Промышленная установка деионизации воды 30 м3/ч для производства фотоэлектрических элементов

Промышленная установка деионизации воды 30 м3/ч для производства фотоэлектрических элементов

Наименование марки: HJW
Могил: 1 комплект
Цена: US$66200~US$66500
Условия оплаты: L/C, D/P, T/T, Western Union
Способность снабжения: >300 комплектов/месяц
Детальная информация
Место происхождения:
Шэньчжэнь, Гуандун
Сертификация:
ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Мощность:
30 м3/ч ((Можно настроить)
Уровень опреснения:
> 99,5%
Проводимость:
0.5 мкСм/см
Сопротивляемость:
≥ 18.2 MΩ·см
Основные компоненты:
UF мембрана, RO мембрана, модуль CEDI
после обслуживания:
2-летняя гарантия
Упаковывая детали:
Экспорт стандартный деревянный корпус
Выделить:

Промышленная установка деионизации воды 30 м3/ч

,

Система фильтрации деионизированной воды 30 м3/ч

,

Промышленная установка деионизации воды для производства фотоэлектрических элементов

Описание продукта

I.Обзор
Оборудование для деионизированной воды играет решающую роль в производстве фотоэлектрических элементов, служа "жизненной системой" производства фотоэлектрических элементов.Ее основное значение заключается в обеспечении высокой чистоты качества воды, чтобы обеспечить, что ключевые процессы, такие как обработка кремниевых пластинокЭто ключ к обеспечению чистоты, сокращению затрат и повышению эффективности, а также устойчивому развитию.

 

II.Основной процесс
Raw Water→Pretreatment→UF (Ultrafiltration)→Two - stage RO (Reverse Osmosis)→CEDI (Continuous Electrodeionization)→ Polishing Mixed Bed→Terminal Ultrafiltration → PV Production Line (Photovoltaic Production Line)

 

III.Основные этапы применения и требования к качеству воды

Этап Функция Требования к качеству воды
Чистка кремниевого материала Удаление ионов металлов (например, Fe3+, Ca2+) и частиц с поверхности кремния Сопротивление ≥ 15 MΩ·cm;ионы бора ≤ 5 ppt
 Приготовление жидкости для резки кремниевого ингота Разбавлять жидкость для резки, чтобы избежать повреждения поверхности Проводимость < 0,1 μS/cm (≈ сопротивление > 10 MΩ·cm); TOC < 10 ppb
 Очистка поверхности чипа батареи Удалять химические остатки, загрязнители металлов и частицы после гравировки Размер частиц ≤ 0,02 мкм;Микроорганизмы < 0,001 CFU/мл

 

IV.Вот руководство для получения подходящей цены.
Укажите нам сырую воду/источник воды ((вода из крана, скважина или морская вода и т.д.)
Предоставьте отчет об анализе воды ((TDS, проводимость или сопротивляемость и т.д.)
Необходимая производственная мощность ((5m3/h, 50m3/h или 500m3/h и т.д.)
Для чего используется чистая вода (промышленная, пищевая, сельскохозяйственная и т.д.)