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Palabras clave [ ro pure water machine ] partido 64 productos.
Equipo de agua pura personalizado de 20 m3/H para la industria química, totalmente automático
| Modelo: | HJ -PWCh20T |
|---|---|
| Tasa de flujo: | ³ /h de los 20m |
| El material: | FPR / Personalizado |
Equipo de agua pura por ósmosis inversa de dos etapas 500L/H para análisis de laboratorio
| Modelo: | HJ - PWLa500L: el valor de las emisiones de gases de efecto invernadero |
|---|---|
| Tasa de flujo: | 500L/h |
| Suministro de electricidad: | 380V |
Equipo de agua pura de 20 m3/H para agua circulante en sistemas de calefacción por suelo radiante
| Modelo: | HJ - PWGFH20T |
|---|---|
| Tasa de flujo: | ³ /h de los 20m |
| Suministro de electricidad: | 380V |
VIDEO
Equipo de agua pura por ósmosis inversa de una etapa con capacidad de 8T/hora
| Productividad: | 8T/hora |
|---|---|
| El material: | Acero inoxidable 304 |
| Ro membrana: | DOW Membrana EE.UU. Vontron original |
Equipo de agua pura de 2000 litros Sistema comercial de filtración de agua por ósmosis inversa
| Productividad: | 2000 L/hora |
|---|---|
| Suministro de electricidad: | 380V |
| Función: | Producir el agua dulce |
Equipo de agua ultrapura seguro y confiable de 95 m3/h para agua de alimentación de calderas de centrales nucleares
| Tasa de flujo: | El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de ef |
|---|---|
| Conductividad eléctrica: | ≤0.1 μS/cm (25°C) |
| Proceso básico: | Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido |
Equipo de agua ultrapura de 85 toneladas/h para la producción de ingredientes cosméticos de alta gama
| Calidad del agua: | Resistividad ≥ 15 MΩ·cm |
|---|---|
| Tasa de flujo: | 85 m3/h (se puede personalizar) |
| Proceso básico: | Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido |
Equipo de agua ultrapura industrial de 20T/H hecho a medida para litografía
| Tasa de flujo: | El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de ef |
|---|---|
| Calidad del agua: | Resistividad ≥ 18.18 MΩ·cm (25°C) |
| Proceso básico: | Osmosis inversa + EDI + resina de pulido |
Equipo de agua ultrapura de 1000L/h para la preparación de fases móviles de instrumentos de precisión
| Tasa de flujo: | 1 m³/h (Personalizable) |
|---|---|
| Resistencia: | ≥ 18.2 MΩ·cm @ 25°C (básico) |
| Proceso básico: | Osmosis inversa de doble paso + EDI |
Sistema de agua pura por ósmosis inversa de 20M3/H para control automatizado de alimentos y bebidas
| Tasa de flujo: | 20 m3/h (personalizable) |
|---|---|
| Calidad del agua producida: | Conductividad < 10 μs/cm |
| Tecnología de base: | Ósmosis Inversa (OI) de doble etapa |