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Equipo de agua ultrapura industrial de 20T/H hecho a medida para litografía
Lugar de origen | Shenzhen, China |
---|---|
Nombre de la marca | HongJie |
Certificación | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
Número de modelo | HJ-UPWSe50T |
Cantidad de orden mínima | >=1conjuntos |
Precio | US$44000~US$44500 |
Detalles de empaquetado | Casilla de madera estándar de exportación |
Tiempo de entrega | 1-7 días hábiles (depende de la cantidad de materias primas) |
Condiciones de pago | L/C, D/P, T/T, Western Union |
Capacidad de la fuente | >300 juegos/mes |

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xTasa de flujo | El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de ef | Calidad del agua | Resistividad ≥ 18.18 MΩ·cm (25°C) |
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Proceso básico | Osmosis inversa + EDI + resina de pulido | Componentes claves | Módulos de membrana RO, unidades EDI |
Suministro de electricidad | Las demás: | Servicio postventa | garantía de dos años |
Modo de funcionamiento | Totalmente automático | Características del producto | Calidad del agua estable, bajo coste de operación, rendimiento fiable |
Capacidad de producción | <0.5 ppb (Requisito de fluido de inmersión <1 ppt) | Materia particulada | > 0.05 μm de partículas |
Resaltar | Equipo de agua ultrapura para litografía,Equipo de agua ultrapura de 20T/H,Máquina de agua ultrapura hecha a medida |
I. Descripción general
El agua ultrapura juega un papel indispensable y de vital importancia en el proceso de litografía. La litografía es uno de los pasos más importantes en la fabricación de semiconductores, y el agua ultrapura de grado litográfico sirve como garantía fundamental para la continua evolución de la “Ley de Moore”, con requisitos de limpieza y pureza química que alcanzan un grado casi estricto. El agua ultrapura (UPW), con su contenido extremadamente bajo de impurezas, es el medio ideal para cumplir con estos estrictos requisitos. Su máxima pureza es la garantía fundamental para asegurar patrones de litografía precisos y sin defectos, y altas tasas de rendimiento.
II. Proceso
Agua cruda → Filtración en múltiples etapas → Ósmosis inversa (OI) → Electrodesionización (EDI) → Oxidación sinérgica UV-ozono → Desgasificación por membrana → Pulido de lecho mixto de doble etapa → Filtración terminal → Tanque de agua sellado con nitrógeno
III. Parámetros
Parámetro | Valor requerido |
Resistividad | ≥18.18 MΩ·cm (25°C) |
Carbono orgánico total (COT) | <0.5 ppb (Requisito de fluido de inmersión <1 ppt) |
Materia particulada | Partículas >0.05μm <1 por mL |
Oxígeno disuelto (OD) | <5 ppb |
Contenido bacteriano | <0.01 UFC/mL |
Dióxido de silicio (SiO₂) | <1 ppb |
Iones de boro/sodio | <10 ppt |
IV. Escenarios de aplicación
Limpieza de obleas
Lavado posterior al revelado
Dilución y preparación de fotorresistente/productos químicos
Limpieza de equipos y componentes
V. Aquí hay una guía para obtener una cotización adecuada
Díganos la fuente de agua cruda (agua del grifo, agua de pozo o agua de mar, etc.)
Proporcione un informe de análisis de agua (TDS, conductividad o resistividad, etc.)
Capacidad de producción requerida (5m³/H, 50m³/H o 500m³/H, etc.)
¿Para qué se utiliza el agua pura (industrial, alimentos y bebidas o agricultura, etc.)?