সংক্ষিপ্ত: ইডিআই মডিউল সহ সিলিকন ওয়েফার পরিষ্কারের জন্য ডিজাইন করা 110m3/H আলট্রাপিউর ওয়াটার ট্রিটমেন্ট প্ল্যান্ট আবিষ্কার করুন। এই সিস্টেম পরিস্রাবণ দক্ষতা বাড়ায়, যা ফটোভোলটাইক সেল উৎপাদনের জন্য উচ্চ-বিশুদ্ধতার জল নিশ্চিত করে, যা সরাসরি সেল দক্ষতা এবং পরিচ্ছন্নতাকে প্রভাবিত করে।
সম্পর্কিত পণ্য বৈশিষ্ট্য:
অতি-বিশুদ্ধ জল উৎপাদনের জন্য একটি EDI মডিউল সহ সিলিকন ওয়েফার পরিষ্কারের জন্য ডিজাইন করা হয়েছে।
১১0 ঘনমিটার/ঘণ্টা ক্ষমতা সহ পরিস্রাবণ দক্ষতা বৃদ্ধি করে।
উচ্চতর বিশুদ্ধতার জন্য 25°C তাপমাত্রায় ≥18.18 MΩ*cm প্রতিরোধ ক্ষমতা অর্জন করে।
TOC-এর পরিমাণ কমিয়ে 0.05 μm থেকে ≤1 কণা/mL
অতি-বিশুদ্ধ জলের মান সহ ফটোভোলটাইক কোষের দক্ষতা বৃদ্ধি করে।
ওয়েফার লোড করা থেকে শুরু করে চূড়ান্ত ধোয়া এবং শুকানো পর্যন্ত একটি বিস্তারিত প্রক্রিয়া অন্তর্ভুক্ত করে।
নলের জল, কুয়োর জল বা সমুদ্রের জল সহ বিভিন্ন জলের উৎস সমর্থন করে।
প্রয়োজনীয়তা অনুযায়ী ৫ ঘনমিটার/ঘণ্টা থেকে ৫০০ ঘনমিটার/ঘণ্টা পর্যন্ত কাস্টমাইজযোগ্য উৎপাদন ক্ষমতা।
FAQS:
সিলিকন ওয়েফার পরিষ্কারের ক্ষেত্রে অতি-বিশুদ্ধ জলের গুরুত্ব কী?
অতি-বিশুদ্ধ জল দক্ষ, কম-ত্রুটিপূর্ণ ফটোভোলটাইক কোষ উৎপাদন অর্জনের জন্য গুরুত্বপূর্ণ, যা সরাসরি ওয়েফার পরিচ্ছন্নতা, সংখ্যালঘু বাহক জীবনকাল এবং কোষের কার্যকারিতাের উপর প্রভাব ফেলে।
এই প্ল্যান্ট দ্বারা উৎপাদিত অতিবিশুদ্ধ জলের মূল প্যারামিটারগুলি কী কী?
মূল পরামিতিগুলির মধ্যে রয়েছে প্রতিরোধ ক্ষমতা ≥18.18 MΩ*cm, টিওসি <0.5 ppb, Na⁺/K⁺ <0.1 ppt, Fe³⁺/Al³⁺ <0.05 ppt, Cl⁻ 0.05 μm ≤1 কণা/mL, এবং দ্রবীভূত অক্সিজেন ≤2 ppb।
আমি কিভাবে এই অতিবিশুদ্ধ জল শোধন প্ল্যান্টের জন্য উপযুক্ত উদ্ধৃতি পেতে পারি?
কাঁচা জলের উৎস, জল বিশ্লেষণের রিপোর্ট, প্রয়োজনীয় উৎপাদন ক্ষমতা এবং বিশুদ্ধ জলের উদ্দিষ্ট ব্যবহার (যেমন, শিল্প, খাদ্য ও পানীয়, বা কৃষি) এর মতো বিবরণ প্রদান করুন।