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mots clés [ reverse osmosis membrane ] rencontre 146 produits.
Système industriel de purification d'eau ultrapure de haute capacité 120 m3/h pour le domaine de l'optoélectronique
Qualité de l'eau: | Résistance ≥ 15 à 18,25 MΩ·cm |
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Débit: | 120 m3/h (peut être personnalisé) |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
110 m3/h usine de traitement de l'eau ultrapure pour le nettoyage des plaquettes de silicium avec le module Edi
Qualité de l'eau: | Résistance ≥ ≥ 18,18 MΩ·cm @ 25°C |
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Débit: | 110 m³/H (Personnalisable) |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
Systèmes d'eau ultrapure industriels de 70T/heure pour l'industrie électronique
Qualité de l'eau: | Résistance ≥ 18,2 MΩ·cm ((25°C) |
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Débit: | 70 m³/H (Personnalisable) |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
Équipement d'eau ultrapure de 85 tonnes/h pour la production d'ingrédients cosmétiques haut de gamme
Qualité de l'eau: | Résistance ≥ 15 MΩ·cm |
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Débit: | 85 m3/h (peut être personnalisé) |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
Système de filtration de l'eau industriel en UPVC 150m3h Équipement de traitement de l'eau ultra pure
Matériau principal: | upvc |
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Qualité de l'eau: | Résistance ≥ 15 - 17 MΩ·cm |
Débit: | 150 T/H (peut être personnalisé) |
Système de filtration d'eau industriel PVDF 30t/h Équipement de traitement d'eau ultra pure
Matériau principal: | PVDF |
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Résistance à la température maximale du PVDF: | 140°C (court terme 150°C) |
Qualité de l'eau: | Résistance ≥ 18,2 MΩ·cm |
Équipement d'eau ultra pure de 1000 L/H pour la préparation de phases mobiles d'instruments de précision
Débit: | 1m3/h (personnalisable) |
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Résistance: | ≥ 18,2 MΩ·cm à 25°C (de base) |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI |
Équipement d'eau ultrapure 500 l/h pour contrôles vierges d'instruments de précision
Débit: | 500 l/h (Personnalisable) |
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Résistance: | ≥ 18,2 MΩ·cm @ 25°C |
Processus de base: | Osmose inverse + EDI |
Purificateur d'eau industriel CE/ISO 5000LPH pour spectroscopie d'absorption atomique AAS
Débit: | 5 m³/h (Personnalisable) |
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Qualité de l'eau: | Résistance (25°C) ≥ 18,24 MΩ·cm |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI |
Système de traitement d'eau ultra pure 3000L/heure pour chromatographie liquide haute performance
Débit: | 3 m³/h (Personnalisable) |
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Qualité de l'eau: | Résistance (25°C) ≥ 18,25 MΩ·cm |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI |