Wszystkie produkty
słowa kluczowe [ reverse osmosis membrane ] mecz 146 produkty.
Wysokiej wydajności 120 m3/h Przemysłowy ultraczysty system oczyszczania wody w dziedzinie optoelektroniki
| jakość wody: | Rezystywność ≥15-18,25 MΩ · cm |
|---|---|
| Wskaźnik przepływu: | 120m³/h (możliwość dostosowania) |
| Proces podstawowy: | Podwójna żywica polerowania odwrotnej osmozy + EDI + |
110m3/h Instalacja oczyszczania wody ultraczystą do czyszczenia płytek krzemowych z modułem Edi
| jakość wody: | Rezystywność ≥18,18 MΩ · cm @ 25 ° C |
|---|---|
| Wskaźnik przepływu: | 110m³/h (możliwe do dostosowywania) |
| Proces podstawowy: | Podwójna żywica polerowania odwrotnej osmozy + EDI + |
VIDEO
70T/godzinę przemysłowe systemy wody ultra czystej dla przemysłu elektronicznego
| jakość wody: | Rezystywność ≥18,2 MΩ · cm （25 ° C） |
|---|---|
| Wskaźnik przepływu: | 70 m3/h (możliwe do dostosowywania) |
| Proces podstawowy: | Podwójna żywica polerowania odwrotnej osmozy + EDI + |
85 ton/h Urządzenia do produkcji składników kosmetycznych o najwyższej jakości
| jakość wody: | Rezystywność ≥ 15 MΩ · cm |
|---|---|
| Wskaźnik przepływu: | 85 m3/h (możliwe do dostosowywania) |
| Proces podstawowy: | Podwójna żywica polerowania odwrotnej osmozy + EDI + |
UPVC System filtracji wody przemysłowej 150m3h Urządzenia oczyszczania wody ultra czystej
| Główny materiał: | PCV |
|---|---|
| jakość wody: | Rezystywność ≥ 15 - 17 MΩ · cm |
| Wskaźnik przepływu: | 150t/h (dostosowywany) |
PVDF System filtracji wody przemysłowej 30t/h Urządzenia do oczyszczania wody ultra czystej
| Główny materiał: | PVDF |
|---|---|
| PVDF maksymalny odporność na temperaturę: | 140 ° C (krótkoterminowe 150 ° C) |
| jakość wody: | Rezystywność ≥18,2 mΩ · cm |
1000L/h Urządzenia do wody ultraczystej do mobilnego przygotowywania fazy instrumentów precyzyjnych
| Wskaźnik przepływu: | 1m³/h (możliwe do dostosowywania) |
|---|---|
| Oporność: | ≥ 18,2 MΩ · cm @ 25 ° C (podstawowy) |
| Proces podstawowy: | Podwójna odwrotna osmoza + EDI |
Sprzęt do kontroli w miejscu pustej urządzeń precyzyjnych o pojemności 500 l/h
| Wskaźnik przepływu: | 500L/H (dostosowywany) |
|---|---|
| Oporność: | ≥ 18,2 MΩ · cm @ 25 ° C |
| Proces podstawowy: | Odwrotna osmoza + EDI |
Przemysłowy Oczyszczacz Wody CE/ISO 5000LPH do Spektroskopii Absorpcji Atomowej AAS
| Wskaźnik przepływu: | 5m³/h (możliwe do dostosowywania) |
|---|---|
| jakość wody: | Rezystywność (25 ° C) ≥18,24 MΩ · cm |
| Proces podstawowy: | Podwójna odwrotna osmoza + EDI |
System oczyszczania wody ultraczystej o pojemności 3000 l/h do wysokowydajnej chromatografii ciekłej
| Wskaźnik przepływu: | 3m³/h (dostosowywany) |
|---|---|
| jakość wody: | Rezystywność (25 ° C) ≥18,25 MΩ · cm |
| Proces podstawowy: | Podwójna odwrotna osmoza + EDI |