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高容量 120m3/H 産業用超純水浄化システム 光電子分野
| 水質: | 抵抗率 ≥15-18.25 MΩ·cm |
|---|---|
| 流量: | 120m3/h (カスタマイズ可能) |
| 基本プロセス: | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 |
110m3/H 超純水処理プラント（シリコンウェーハ洗浄用、EDIモジュール付き）
| 水質: | 抵抗性 ≥≥18.18 MΩ·cm @ 25°C |
|---|---|
| 流量: | 110m³/H（カスタマイズ可能） |
| 基本プロセス: | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 |
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CE/ISO 5000LPH 産業用水浄機 原子吸収スペクトロスコピー AAS
| 流量: | 5m3/h (カスタマイズ可能) |
|---|---|
| 水質: | 抵抗率 (25℃) ≧18.24 MΩ·cm |
| 基本プロセス: | 二重通過逆浸透膜 + EDI |
高性能液体クロマトグラフィー用3000L/時超純水処理システム
| 流量: | 3m³/h (カスタマイズ可能) |
|---|---|
| 水質: | 抵抗力 (25°C) ≥18.25 MΩ·cm |
| 基本プロセス: | 二重通過逆浸透膜 + EDI |