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Système de traitement d'eau ultra pure 3000L/heure pour chromatographie liquide haute performance
Débit: | 3 m³/h (Personnalisable) |
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Qualité de l'eau: | Résistance (25°C) ≥ 18,25 MΩ·cm |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI |
Équipement d'eau ultrapure 500 l/h pour contrôles vierges d'instruments de précision
Débit: | 500 l/h (Personnalisable) |
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Résistance: | ≥ 18,2 MΩ·cm @ 25°C |
Processus de base: | Osmose inverse + EDI |
Équipement de traitement d'eau ultrapure 2000LPH pour la spectrométrie de masse
Débit: | 2 m3/h (personnalisable) |
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Résistance: | 18.2 MΩ·cm |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI |
Systèmes industriels d'eau ultrapure pour semi-conducteurs avec EDI de 60 T/heure
Nom du produit: | Système industriel de purification de l'eau par RO |
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Débit: | 60T/Hour |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
Systèmes d'eau ultrapure à 2 étapes 2000L/heure EDI Equipement d'ultrafiltration d'eau ultrapure
Débit: | 2000L/h |
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Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
Traitement préparatoire: | Sable de quartz/charbon actif/adoucisseur d'eau/filtre PP |
Équipement d'eau ultra pure à grande échelle - Système d'ultrafiltration 30T par heure
Nom du produit: | Systèmes d'eau ultra-pure |
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Usine d'ultra-filtration: | 30ème |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
Équipement de purification d'eau ultra-pure à énergie nouvelle Système de purification d'eau de grande taille 20000L-500000L
Débit: | 20000L-500000L |
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Nom du produit: | Système de traitement de l'eau ultra pure |
Processus de base: | L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage |
Machine à eau ultrapure RO EDI pour plaquettes de silicium / eau ultrapure biochimique
Article: | Inverse d'osmose de filtre d'eau |
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Débit: | 0.25~200 m³/H (Personnalisable) |
Technologie: | Prétraitement + OI |
Équipement de traitement de l'eau industriel en PRF 20m3/h Système de purification d'eau ultra pure
Qualité de l'eau: | résistance ≥ 18,2 MΩ·cm |
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Débit: | 20 m³/H (Personnalisable) |
Processus de base: | UF+RO à 2 étapes + EDI + résine de polissage |
Système de filtration d'eau industriel PVDF 30t/h Équipement de traitement d'eau ultra pure
Matériau principal: | PVDF |
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Résistance à la température maximale du PVDF: | 140°C (court terme 150°C) |
Qualité de l'eau: | Résistance ≥ 18,2 MΩ·cm |