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पूरे घर का जल शोधन आरओ फिल्टर हाउसिंग यूनिवर्सल 20 इंच
उत्पाद का नाम: | यूनिवर्सल 20-इंच फिल्टर बोतल |
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उत्पाद विनिर्देश: | यूनिवर्सल 20-इंच |
इंटरफ़ेस का आकार: | 4 अंक / 6 अंक / 1 इंच |
उच्च क्षमता 165m3/h रिवर्स ऑस्मोसिस जल उपचार संयंत्र स्थिर प्रदर्शन
प्रवाह दर: | 165m and/h (अनुकूलन योग्य) |
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उत्पादित पानी की गुणवत्ता: | चालकता <10μs/सेमी |
मूल तकनीकी: | रिवर्स ऑस्मोसिस (आरओ) |
इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के लिए 70T/घंटा औद्योगिक अल्ट्राप्योर वाटर सिस्टम
पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता .218.2 Mω · सेमी ° 25 ° C) |
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प्रवाह दर: | 70m and/h (अनुकूलन योग्य) |
कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
85 टन/घंटा अल्ट्रा प्योर वाटर उपकरण उच्च अंत कॉस्मेटिक सामग्री के उत्पादन के लिए
पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता of 15 एम · सेमी |
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प्रवाह दर: | 85m and/h (अनुकूलन योग्य) |
कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
लेजर कूलिंग के लिए 10 टन प्रति घंटे औद्योगिक अति शुद्ध जल शुद्धिकरण प्रणाली
पानी की गुणवत्ता: | ≥18.2 Mω ・ CM ° 25 ° C) |
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प्रवाह दर: | 10m the/h (अनुकूलन योग्य) |
कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
यूपीवीसी औद्योगिक जल फिल्टर सिस्टम 150m3h अल्ट्रा प्योर वाटर ट्रीटमेंट उपकरण
मुख्य सामग्री: | यूपीवीसी |
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पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता and 15 - 17 Mω · cm |
प्रवाह दर: | 150T/H (अनुकूलन योग्य) |
पीवीडीएफ औद्योगिक जल फिल्टर प्रणाली 30t/H अल्ट्रा शुद्ध जल उपचार उपकरण
मुख्य सामग्री: | पीवीडीएफ |
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पीवीडीएफ अधिकतम तापमान प्रतिरोध: | 140 डिग्री सेल्सियस (लघु - शब्द 150 डिग्री सेल्सियस) |
पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता .218.2mω · सेमी |
मास स्पेक्ट्रोमेट्री के लिए लैब 2000LPH अल्ट्राप्योर वाटर ट्रीटमेंट उपकरण
प्रवाह दर: | 2m g/h (अनुकूलन योग्य) |
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प्रतिरोधकता: | 18.2 M · · cm |
कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |
1000L/H अल्ट्रा प्योर वाटर इक्विपमेंट फॉर मोबाइल फेज़ प्रिपरेशन ऑफ़ प्रेसिजन इंस्ट्रूमेंट्स
प्रवाह दर: | 1m g/h (अनुकूलन योग्य) |
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प्रतिरोधकता: | ≥ 18.2 Mω · cm @ 25 ° C (मूल) |
कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |
सटीक यंत्रों के रिक्त नियंत्रण के लिए 500 लीटर/घंटे का अति शुद्ध जल उपकरण
प्रवाह दर: | 500L/H (अनुकूलन योग्य) |
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प्रतिरोधकता: | ≥ 18.2 Mω · cm @ 25 ° C |
कोर प्रक्रिया: | रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |