ผลิตภัณฑ์ทั้งหมด
คำหลัก [ ultrafiltration membrane ] การจับคู่ 68 ผลิตภัณฑ์.
ระบบน้ำบริสุทธิ์พิเศษอัตโนมัติ 50 ลบ.ม./ชม. พร้อมโมดูล Electrodeionization
| อัตราการไหล: | 50m³/h (ปรับแต่งได้) |
|---|---|
| คุณภาพน้ำ: | การนำไฟฟ้า ＜≤1.3 μs/cm (25 ° C) |
| กระบวนการหลัก: | double-pass reverse osmosis + edi |
ตัวเรือนกรอง RO สำหรับกรองน้ำทั้งบ้าน ขนาด 20 นิ้ว
| ชื่อสินค้า: | ขวดตัวกรองขนาด 20 นิ้วสากล |
|---|---|
| คุณสมบัติของผลิตภัณฑ์: | สากล 20 นิ้ว |
| ขนาดอินเทอร์เฟซ: | 4 คะแนน / 6 คะแนน / 1 นิ้ว |
ความจุสูง 165m3/h โรงงานบํารุงน้ําออสโมซิสกลับ ผลงานคงที่
| อัตราการไหล: | 165m³/h (ปรับแต่งได้) |
|---|---|
| คุณภาพน้ำที่ผลิตได้: | ค่าการนำไฟฟ้า <10μs/cm |
| เทคโนโลยีหลัก: | Reverse Osmosis (RO) |
VIDEO
ระบบน้ำบริสุทธิ์พิเศษสำหรับอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ 70 ตัน/ชั่วโมง
| คุณภาพน้ำ: | ความต้านทาน (18.2 MΩ· CM （25 ° C） |
|---|---|
| อัตราการไหล: | 70m³/h (ปรับแต่งได้) |
| กระบวนการหลัก: | double-pass reverse osmosis + edi + polishing resin |
อุปกรณ์น้ำบริสุทธิ์พิเศษ 85 ตัน/ชม. สำหรับผลิตส่วนผสมเครื่องสำอางระดับไฮเอนด์
| คุณภาพน้ำ: | ความต้านทาน≥ 15 mΩ·ซม. |
|---|---|
| อัตราการไหล: | 85m³/h (ปรับแต่งได้) |
| กระบวนการหลัก: | double-pass reverse osmosis + edi + polishing resin |
ระบบทําความสะอาดน้ําอุตสาหกรรม 10 ตันต่อชั่วโมง
| คุณภาพน้ำ: | ≥18.2MΩ ・ CM （25 ° C） |
|---|---|
| อัตราการไหล: | 10m³/h (ปรับแต่งได้) |
| กระบวนการหลัก: | double-pass reverse osmosis + edi + polishing resin |
ระบบกรองน้ำอุตสาหกรรม UPVC 150 ลบ.ม./ชม. อุปกรณ์บำบัดน้ำบริสุทธิ์พิเศษ
| สื่อหลัก: | ยูพีวีซี |
|---|---|
| คุณภาพน้ำ: | ความต้านทาน≥ 15 - 17 MΩ· cm |
| อัตราการไหล: | 150T/H (ปรับแต่งได้) |
ระบบกรองน้ําอุตสาหกรรม PVDF 30t/H อุปกรณ์บํารุงน้ําบริสุทธิ์สุด
| สื่อหลัก: | พีวีดีเอฟ |
|---|---|
| ความต้านทานอุณหภูมิสูงสุด PVDF: | 140 ° C (ระยะสั้น - เทอม 150 ° C) |
| คุณภาพน้ำ: | ความต้านทาน≥18.2mΩ·ซม. |
อุปกรณ์บำบัดน้ำบริสุทธิ์พิเศษ 2000LPH สำหรับ Mass Spectrometry
| อัตราการไหล: | 2m³/h (ปรับแต่งได้) |
|---|---|
| ความต้านทาน: | 18.2 MΩ· cm |
| กระบวนการหลัก: | double-pass reverse osmosis + edi |
อุปกรณ์น้ำบริสุทธิ์พิเศษ 1000 ลิตร/ชั่วโมง สำหรับเตรียมเฟสเคลื่อนที่ของเครื่องมือวัดความแม่นยำ
| อัตราการไหล: | 1m³/h (ปรับแต่งได้) |
|---|---|
| ความต้านทาน: | ≥ 18.2 MΩ· cm @ 25 ° C (พื้นฐาน) |
| กระบวนการหลัก: | double-pass reverse osmosis + edi |