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1時間あたり10トンの産業用超純水製造システム(レーザー冷却用)
水質: | ≥18.2 MΩ・cm ((25°C) |
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流量: | 10m³/H(カスタマイズ可能) |
基本プロセス: | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 |
50m3/h 自動化超純水システム 電子イオン化モジュール
流量: | 50m3/h (カスタマイズ可能) |
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水質: | 導電性<≤1.3 μS/cm ((25°C) |
基本プロセス: | 二重通過逆浸透膜 + EDI |
高容量 120m3/H 産業用超純水浄化システム 光電子分野
水質: | 抵抗率 ≥15-18.25 MΩ·cm |
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流量: | 120m3/h (カスタマイズ可能) |
基本プロセス: | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 |
CE/ISO 5000LPH 産業用水浄機 原子吸収スペクトロスコピー AAS
流量: | 5m3/h (カスタマイズ可能) |
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水質: | 抵抗率 (25℃) ≧18.24 MΩ·cm |
基本プロセス: | 二重通過逆浸透膜 + EDI |