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x商品の詳細
| 水質 | ≥18.2 MΩ・cm ((25°C) | 流量 | 10m³/H（カスタマイズ可能） |
|---|---|---|---|
| 基本プロセス | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 | 主要部分 | RO膜モジュール、EDIユニット |
| 電力供給 | 380V/220V | アフターサービス | 2年の保証 |
| 動作モード | 全自動 | 製品の特徴 | 安定した水質,低運用コスト,信頼性の高い性能 |
| トー・コ | ≤1〜5ppb (μg/L) | する | ≤10 ppb（理想値≤5 ppb） |
| ハイライト | 産業用超純水装置,カスタマイズ可能な超純水システム |
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製品の説明
I.概要
超純粋な水 (抵抗力 ≥ 18.2 MΩ·cm) は,高級レーザー機器の冷却システムにおける"生命動脈"として,レーザー設備の冷却システムにおいて重要な役割を果たします.特に高電力冷却では高安定性レーザー (半導体ポンプによる固体レーザー,高功率ファイバーレーザー,エクシマーレーザー,特定のガスレーザーなど)高精度レーザー機器 (工業用切削/溶接レーザーなど)医療用レーザーや研究用超高速レーザーなど) は,信頼性の高い動作と寿命の延長を保証する重要な技術部品の1つです.その基本的な用途は,そのユニークな物理的および化学的性質にあります効率的な散熱を保証し,システム損傷を防ぐことにより,冷却媒体のレーザーシステムの厳しい要件を満たすことができます.
II.標準プロセス
Municipal tap water → Multi - media filtration → Activated carbon adsorption → 5μm security filtration → RO (Reverse Osmosis) → EDI (Electrodeionization) → Mixed bed polishing → 185/254nm UV (Ultraviolet) → 0.1μm超過濾 → 窒素密閉貯蔵タンク → 316Lステンレス鋼循環管網 → ラザー装置 冷板
III.物理化学の基本パラメータ
| パラメータ | 詳細 | ||||
| 耐性 | ≥18.2 MΩ・cm(25°C) | ||||
| トー・コ | ≤1〜5ppb (μg/L) | ||||
| DO | ≤10ppb (理想値 ≤5ppb) | ||||
| 粒子数 | ≤1粒/mL (粒子の大きさ ≥0.1μm) | ||||
| バクテリア と 内毒素 | 細菌総数: <0.1 CFU/mL (ほぼ無菌) | ||||
| エンドトキシン: ≤0.001 EU/mL (超低ピロゲン) | |||||
IV.レーザー設備冷却システムにおける超純水の主要な用途と利点
高効率の熱伝達は,熱消耗の要件を満たすことを保証します.
スケールリスクはゼロで システムが障害を受けないようにします
極めて低導電性は 高価な機器を保護する 電気化学腐食を大幅に抑制します
微生物の成長を防ぐ
レーザー性能を長期的に安定させる
V.特定の応用シナリオ
高功率半導体レーザーダイオード/棒
DPSSレーザー
高功率ファイバーレーザー
エキシマーレーザー
高功率のCO2レーザー
VI.ここは,適切な引金を得るためのガイドラインです
生水/水の源を教えて下さい (水道水,井戸水,海水など)
水分析報告 (TDS,導電性,抵抗性など) を提供する.
必要な生産能力 ((5m3/h,50m3/h,または500m3/h,など)
純粋な水は何のために使われますか (産業,食品,飲料,農業など)
