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エレクトロニクスと半導体のためのUPWの準備のための超濾過システム 50TPH産業用水処理システム
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x商品の詳細
| 容量 | 50T/H (カスタマイズ可能) | Matetrial | ステンレス鋼 |
|---|---|---|---|
| トー・コ | >50% (入口水 <100ppb) | サービス後 | 24時間365日サポート、2年間の保証 |
| 制御モード | PLCコントローラ | HSコード | 84212199 |
| ハイライト | 50TPH産業用超濾過システム,エレクトロニクス用UPW超濾過システム,半導体水処理超濾過システム |
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製品の説明
I.概要
超過濾 (UF) システムは,電子機器と半導体のための超純水 (UPW) の準備において,粒子を効率的に除去することによって,事前処理の重要な役割を果たします.コロイドや微生物逆オスモス (RO) とイオン交換樹脂を保護し,生成された水が18.2 MΩ-cmの抵抗基準を満たすことを保証します.
II.主要プロセス
市水/地表水 → マルチメディア過濾 →活性炭吸附 →超過濾システム →逆オスモス (RO) → EDI/CDI → 磨き混合床 →超純水
III.超濾過システムのコアパラメータ
| パラメータ | 電子グレード規格 | 工業用一般級の比較 | ||||
| 膜材料 | PVDF (水素性改変) | 一般的なPES | ||||
| 毛穴の大きさ | 0.01・0.03 μm | 0.05 〜0.1 μm | ||||
| 製品水 SDI15 | ≤10 | ≤30 | ||||
| TOC の除去率 | >50% (入口水 <100ppb) | <30% | ||||
| バクテリア 制御 | <1 CFU/100mL | < 10 CFU/mL | ||||
IV 設備の選択の重要なポイント
| 部品タイプ | 利点 | 適用 できる シナリオ | |||||
| 外部圧力 空洞繊維 | 高流量 (60-100 LMH),清掃が簡単 | 大型ウェーファーファブ (≥1000トン/日) | |||||
| 内部圧力の螺旋膜 | コンパクトな構造,小さな死体体積 | 小規模半導体包装工場 | |||||
| セラミック超濾過膜 | 強い酸/アルカリ浄化に耐える (pH 1-14),使用寿命10年 | 高TOC/重金属リスクのある水源 | |||||
V.超濾過システムは半導体超純水の調製において3倍も代替できない
硬さ:
SDI<1,TOC<2ppb,および細菌<1CFUを同時に満たす唯一の技術
経済的最適化
純化学前処理と比較して所有総コストの40%削減 (10年LCOE分析)
プロセス保証:
28nmまでの高度なプロセスで<0.1デフォクト/cm2のデフォクト率を保証する
VI.ここは,適切な引金を得るためのガイドラインです
生水/水の源を教えて下さい (水道水,井戸水,海水など)
水分析報告 (TDS,導電性,抵抗性など) を提供する.
必要な生産能力 ((5m3/h,50m3/h,または500m3/h,など)
純粋な水は何のために使われますか (産業,食品,飲料,農業など)
