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전자 및 반도체용 초순수(UPW) 제조를 위한 한외 여과 시스템 50TPH 산업용 수처리 시스템
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x| 용량 | 50t/h (사용자 정의 가능) | 마테트리얼 | 스테인레스 스틸, PE, UPVC, PVDF, PES |
|---|---|---|---|
| TOC | > 50% (입구 물 <100 ppb) | 애프터 서비스 | 24/7 지원, 2 년 보증 |
| 제어 모드 | PLC 컨트롤러 | HS 코드 | 84212199 |
| 강조하다 | 50TPH 산업용 초필트레이션 시스템,전자제품용 UPW 초필트레이션 시스템,반도체 수처리 초필트레이션 시스템 |
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I. 개요
초순수(UPW) 시스템은 전자 및 반도체 산업에서 입자, 콜로이드 및 미생물을 효율적으로 제거하여 초순수를 준비하는 데 중요한 전처리 역할을 합니다. 후속 역삼투압(RO) 및 이온 교환 수지를 보호하고, 생산된 물이 18.2 MΩ-cm의 저항 표준을 충족하도록 보장합니다.
II. 주요 공정
수돗물/표면수 → 다중 매체 여과 → 활성탄 흡착 → 한외 여과 시스템 → 역삼투압(RO) → EDI/CDI → 연마 혼합 베드 → 초순수
III. 한외 여과 시스템의 핵심 매개변수
| 매개변수 | 전자 등급 표준 | 산업 일반 등급 비교 | ||||
| 막 재료 | PVDF (친수성 변형) | 일반 PES | ||||
| 기공 크기 | 0.01–0.03 μm | 0.05–0.1 μm | ||||
| 생산수 SDI15 | ≤1.0 | ≤3.0 | ||||
| TOC 제거율 | >50% (입수 <100 ppb) | <30% | ||||
| 세균 제어 | <1 CFU/100mL | <10 CFU/mL | ||||
IV. 장비 선택을 위한 핵심 사항
| 구성 요소 유형 | 장점 | 적용 시나리오 | |||||
| 외압 중공 섬유 | 높은 플럭스(60-100 LMH), 청소 용이 | 대규모 웨이퍼 팹(≥1000톤/일) | |||||
| 내압 나선형 막 | 컴팩트한 구조, 작은 데드 볼륨 | 소규모 반도체 패키징 공장 | |||||
| 세라믹 한외 여과막 | 강산/알칼리 세척에 강함(pH 1-14), 10년 수명 | TOC/중금속 위험이 높은 수질 | |||||
V. 한외 여과 시스템은 반도체 초순수 제조에 있어 세 가지 대체 불가능한 요소입니다.
강성:
SDI를 동시에 충족하는 유일한 기술<1, TOC<2 ppb, 및 세균 <1 CFU
경제적 최적화:
순수 화학 전처리 대비 총 소유 비용 40% 절감(10년 LCOE 분석)
공정 보장:
최대 28nm의 첨단 공정에서 결함률 <0.1 defects/cm² 보장
VI. 적절한 견적을 받기 위한 지침입니다.
원수/수원(수돗물, 우물물 또는 해수 등)을 알려주세요.
수질 분석 보고서(TDS, 전도도 또는 저항 등)를 제공하십시오.
필요한 생산 능력(5m³/H, 50m³/H 또는 500m³/H 등)
순수한 물을 어디에 사용하십니까(산업, 식품 및 음료 또는 농업 등)
