半導体産業で使用される、EDI および研磨混合床を備えた 2T 超純水逆浸透装置

I. 概要

EDI および研磨混合床を備えた 2T/h 超純水逆浸透システムは、半導体、電子機器、精密製造業界の厳しい水質要件を満たすように設計されています。

前処理、RO、EDI、および混合床研磨技術を統合し、最大 18.2 MΩ・cm の抵抗率を持つ超純水の連続生産を保証します。このシステムはコンパクトで、高度に自動化されており、安定しているため、重要な産業用途に最適です。

II. 主な特徴

超純水の連続生産（最大 2,000 L/h）。

超高純度を実現する二段逆浸透 + EDI + 混合床研磨。

導電率、抵抗率、TOC のオンライン監視を備えた自動 PLC 制御。

設置とメンテナンスが容易なモジュール式スキッドマウント設計。

環境に優しい – EDI に酸/アルカリ再生は不要。

III. 技術パラメータ

IV. フローチャート

原水タンク → 原水ポンプ → マルチメディアフィルター（石英砂）→ 活性炭フィルター → 軟水器（オプション、原水硬度が高い場合）→ カートリッジフィルター（5μm PP）→ 高圧ポンプ → 逆浸透（第 1 段階）→ 逆浸透（第 2 段階）→ EDI（電気脱イオンモジュール）→ 研磨混合床（イオン交換樹脂）→ UV 殺菌器 + 精密フィルター → 超純水貯水タンク → 分配ポンプ + ループ配管 → 使用地点（半導体製造ライン）

ニーズを特定する

以下の問題を明確にすることで、お客様に最適な機器を決定できます。

水質の問題

例 1：沈殿物が基準を超える / スケール / 濁った水 / 微生物が基準を超える / 重金属が基準を超える / マネーユーが基準を超えるなど。

水質基準

例 1：軟水 / 純水 / 超純水 / 鉄およびマンガンの除去 / 沈殿物の除去 / 殺菌など。

1日の水消費量

例 1：集中水消費期間 / 水消費時間 / ピーク最大水消費量 / 1時間あたりの平均水消費量があるかどうか

結論の例

1時間あたり5トンの軟水設備。

1時間あたり3トンの逆浸透水浄化設備

上記の質問に明確に答えられない場合は？

1. 1日の水消費量：水のサンプルをボトルで送ってください。

2. 水質基準：お客様の業界をお知らせください。

3. 水消費量：水消費量の計算をお手伝いします。