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| ブランド名: | HongJie |
| モデル番号: | HJ-UPWSe50T |
| Moq: | >=1セット |
| 価格: | US$44000~US$44500 |
| 支払い条件: | L/C,D/P,T/T,ウェスタン・ユニオン |
| 供給能力: | >300セット/月 |
I. 概要
超純水は、リソグラフィプロセスにおいて不可欠かつ非常に重要な役割を果たします。リソグラフィは半導体製造における最も重要な工程の一つであり、リソグラフィグレードの超純水は、清浄度と化学的純度に対する要求が非常に厳しく、“ムーアの法則”の継続的な進化を保証する基盤となります。超純水（UPW）は、その極めて低い不純物含有量により、これらの厳しい要求を満たす理想的な媒体です。その究極の純度は、正確で欠陥のないリソグラフィパターンと高い歩留まりを保証するための基本的な保証となります。
II. プロセス
原水 → 多段ろ過 → 逆浸透（RO）→ 電気脱イオン（EDI）→ UV-オゾン相乗酸化 → 膜脱気 → 二段混床研磨 → 最終ろ過 → 窒素封入水槽
III. パラメータ
| パラメータ | 必要値 |
| 抵抗率 | ≥18.18 MΩ·cm (25°C) |
| 全有機炭素（TOC） | <0.5 ppb (浸漬液要件<1 ppt) |
| 粒子状物質 | >0.05μmの粒子<1個/mL |
| 溶存酸素（DO） | <5 ppb |
| 細菌数 | <0.01 CFU/mL |
| 二酸化ケイ素（SiO₂） | <1 ppb |
| ホウ素/ナトリウムイオン | <10 ppt |
IV. 適用シナリオ
ウェーハ洗浄
現像後洗浄
フォトレジスト/化学薬品の希釈と調製
機器および部品の洗浄
V. 適切な見積もりを得るためのガイドライン
原水/水源（水道水、井戸水、海水など）をお知らせください
水質分析レポート（TDS、導電率、抵抗率など）をご提供ください
必要な生産能力（5m³/H、50m³/H、または500m³/Hなど）
純水の用途（工業用、食品・飲料用、農業用など）
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