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광전자 분야에 대한 높은 용량 120m3/H 산업 초순수 정화 시스템
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x제품 상세 정보
| 수질 | 저항성 ≥15-18.25 MΩ · cm | 유동률 | 120m³/h (사용자 정의 가능) |
|---|---|---|---|
| 핵심프로세스 | 이중 통과 역삼 투 + EDI + 연마 수지 | 핵심 부품 | RO 멤브레인 모듈, EDI 장치 |
| 전기 공급 | 380V/220V | 판매 후 서비스 | 2년 보증 |
| 조작 모드 | 완전 자동 | TOC | <0.5 ppb |
| 살균률 | 990.99% | 기계 시험 보고 | 제공 |
| 강조하다 | 120m3/H 초순수 정화 시스템,고 용량 초순수 정화 시스템,광전자 현장 산업용 수정기 |
||
제품 설명
광전자 분야에 대용량 120m3/h 산업 초순수 (RO+EDI) 정화 시스템
I. 개요
초순수물은 광전자 분야에서 제품 성능과 생산량을 보장하는 핵심 요소입니다. 특히 반도체, 광전자,디스플레이 패널광 전자제품 제조에서 초순 물의 비용은 0.0%에 불과합니다.장비 투자 5%~2%하지만 물의 품질 결함이 수백만 달러의 폐기물 손실을 초래할 수 있습니다. 물의 품질은 수확의 보이지 않는 보호자입니다.
II. 핵심 프로세스
원수 → 전처리 → 2단계 RO → 혼합 - 침대 EDI → TOC 분해 → 최종 정제 → 순환 및 유통
산업 비교 - 차별화된 과정
| 적용 분야 | 수질의 핵심 지표 | 프로세스 초점 | ||||||
| 반도체 | 금속 이온 < 0.1ppt, 입자 > 0.05μm: 0 | 2단계 RO + 혼합 베드 + 0.02μm 초조선 | ||||||
| 태양광 | Cl− < 0.1ppb, 저항성 > 18 MΩ·cm | 증강된 탈산화 樹脂 + 탈가스 모듈 | ||||||
| 디스플레이 패널 | TOC < 1ppb, 콜로이드 실리콘이 없습니다 | 이중 파장 UV + 울트라 필트레이션 + 터미널 폴리싱 혼합 베드 | ||||||
IV. 주요 응용 시나리오
반도체 웨이퍼 제조
태양 전지 전지 생산
디스플레이 패널 제조 (LCD/OLED)
광학 코팅
V. 여기서는 적절한 표를 얻을 수 있도록 지침입니다
생수/수의 출처를 알려주세요 ((관수, 우물물, 바다물 등)
수분 분석 보고서를 제공 (TDS, 전도성 또는 저항성 등)
필요한 생산 용량 ((5m3/H, 50m3/H,또는 500m3/H,등)
순수한 물은 어떤 용도로 사용되나요 (산업, 식품 및 음료, 또는 농업 등)
