주문 제작 20T / H 산업 초 순수 물 장비 리토그래피
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x제품 상세 정보
| 유동률 | 50m³/h (사용자 정의 가능) | 수질 | 저항 ≥18.18 MΩ · cm (25 ° C) |
|---|---|---|---|
| 핵심프로세스 | 역삼 투 + EDI + 연마 수지 | 핵심 부품 | RO 멤브레인 모듈, EDI 장치 |
| 전기 공급 | 380V/220V | 판매 후 서비스 | 2년 보증 |
| 조작 모드 | 완전 자동 | 제품 특징 | 안정적인 수질, 낮은 작동 비용, 안정적인 성능 |
| TOC | <0.5 ppb (침지 유체 요구 사항 <1 ppt) | 입자상 물질 | > ml 당 0.05μm 입자 <1 |
| 강조하다 | 리토그래피를 위한 초순수 장비,20T/H 초순수장비,주문 제작 초 순수 물 기계 |
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제품 설명
I. 개요
초순수는 리소그래피 공정에서 필수적이고 매우 중요한 역할을 합니다. 리소그래피는 반도체 제조의 가장 핵심적인 단계 중 하나이며, 리소그래피 등급의 초순수는 “무어의 법칙”의 지속적인 발전을 위한 기본적인 보증 역할을 하며, 청결도와 화학적 순도에 대한 요구 사항은 거의 엄격한 수준에 이릅니다. 초순수(UPW)는 불순물 함량이 극도로 낮아 이러한 엄격한 요구 사항을 충족하는 이상적인 매체입니다. 궁극적인 순도는 정밀하고 결함 없는 리소그래피 패턴과 높은 수율을 보장하는 근본적인 보증입니다.
II. 공정
원수 → 다단계 여과 → 역삼투압(RO) → 전기탈이온화(EDI) → UV-오존 시너지 산화 → 막 탈기 → 2단계 혼합층 연마 → 최종 여과 → 질소 밀봉 물탱크
III. 매개변수
| 매개변수 | 요구 값 |
| 비저항 | ≥18.18 MΩ·cm (25°C) |
| 총 유기 탄소(TOC) | <0.5 ppb (침지액 요구 사항<1 ppt) |
| 입자상 물질 | >0.05μm 입자<1개/mL |
| 용존 산소(DO) | <5 ppb |
| 세균 함량 | <0.01 CFU/mL |
| 이산화 규소(SiO₂) | <1 ppb |
| 붕소/나트륨 이온 | <10 ppt |
IV. 적용 시나리오
웨이퍼 세척
현상 후 세척
감광제/화학 물질 희석 및 준비
장비 및 부품 세척
V. 적절한 견적을 받기 위한 지침
원수/수원(수돗물, 우물물, 해수 등)을 알려주세요.
수질 분석 보고서(TDS, 전도도 또는 비저항 등)를 제공하십시오.
필요한 생산 능력(5m³/H, 50m³/H 또는 500m³/H 등)
순수한 물을 어디에 사용하십니까(산업용, 식품 및 음료, 또는 농업 등)
