Hochkapazitäts 120 m3/h Industrie-Ultrareinwasserreinigungssystem für Optoelektronik
Herkunftsort | Guangdong, China |
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Markenname | HongJie |
Zertifizierung | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
Min Bestellmenge | >=1Sets |
Preis | US$234000~US$239500 |
Verpackung Informationen | Holzgehäuse für den Ausfuhrstandard |
Lieferzeit | 1-7 Werktage (abhängig von der Lagerhaltung der Rohmaterialien) |
Zahlungsbedingungen | L/C, D/P, T/T, Western Union |
Versorgungsmaterial-Fähigkeit | > 300 Stück/Monat |

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xWasserqualität | Widerstand ≥ 15-18,25 MΩ·cm | Flussrate | 120 m3/h (anpassbar) |
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Kernprozess | Doppelpass-Umkehrosmose + EDI + Polierharz | Schlüsselkomponenten | RO-Membranmodule, EDI-Einheiten |
Elektrizitätsversorgung | 380 V/220 V | Dienstleistungen nach dem Verkauf | 2-jährige Garantie |
Betriebsmodus | Vollautomatik | Zentrale Position | < 0,5 ppb |
Sterilisationsrate | 99.99% | Maschinenprüfbericht | Bereitgestellt |
Hervorheben | 120 m3/h Ultrareinwasserreinigungssystem,Hochleistungs-Ultrareinwasserreinigungssystem,Optoelektronik Feldwasserreiniger für Industriezwecke |
Hochleistungs-Industrie-Ultrareinwasseraufbereitungssystem (RO+EDI) mit 120 m³/h für die Optoelektronik
I. Überblick
Ultrareines Wasser ist ein Kernelement zur Sicherstellung der Produktleistung und -ausbeute im Bereich der Optoelektronik, insbesondere in der Präzisionsfertigung wie Halbleitern, Photovoltaik und Display-Panels, wo seine Reinheit die elektrischen Eigenschaften, die optische Leistung und die Oberflächenqualität der Geräte direkt beeinflusst. In der optoelektronischen Fertigung machen die Kosten für ultrareines Wasser nur 0,5 % bis 2 % der Geräteinvestitionen aus, aber Wasserqualitätsmängel können zu Verlusten in Millionenhöhe führen — die Wasserqualität ist der unsichtbare Hüter der Ausbeute.
II. Kernprozess
Rohwasser → Vorbehandlung → Zweistufige RO → Mischbett-EDI → TOC-Abbau → Endreinigung → Kreislauf und Verteilung
III. Vergleich von branchenspezifischen Prozessen
Anwendungsbereich | Kernwasserqualitätsindikatoren | Prozessschwerpunkt | ||||||
Halbleiter | Metallionen 0,05 μm: 0 | Zweistufige RO + Mischbett + 0,02 μm Ultrafiltration | ||||||
Photovoltaik | Cl⁻ 18 MΩ·cm | Verbesserte Desoxygenierungs-Harz + Entgasungsmodul | ||||||
Display-Panel | TOC < 1 ppb, Kein kolloidales Silizium | Doppelwellenlängen-UV + Ultrafiltration + Endpolier-Mischbett | ||||||
IV. Kernanwendungsszenarien
Halbleiterwafer-Herstellung
Photovoltaikzellen-Produktion
Display-Panel-Herstellung (LCD/OLED)
Optische Beschichtung
V. Hier ist eine Richtlinie für ein passendes Angebot
Teilen Sie uns das Rohwasser/die Wasserquelle mit (Leitungswasser, Brunnenwasser oder Meerwasser usw.)
Stellen Sie einen Wasseranalysebericht bereit (TDS, Leitfähigkeit oder spezifischer Widerstand usw.)
Erforderliche Produktionskapazität (5 m³/h, 50 m³/h oder 500 m³/h usw.)
Wofür wird das Reinwasser verwendet (Industrie, Lebensmittel und Getränke oder Landwirtschaft usw.)