Détails des produits

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Équipement pour l'eau ultrapure
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110 m3/h usine de traitement de l'eau ultrapure pour le nettoyage des plaquettes de silicium avec le module Edi

110 m3/h usine de traitement de l'eau ultrapure pour le nettoyage des plaquettes de silicium avec le module Edi

Nom De La Marque: HongJie
Numéro De Modèle: HJ-UPWSe110T
MOQ: >=1 ensembles
Le Prix: US$219200~US$224500
Conditions De Paiement: L/C, D/P, T/T, Western Union
Capacité D'offre: > 300 ensembles par mois
Informations détaillées
Lieu d'origine:
Guangdong, Chine
Certification:
ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Qualité de l'eau:
Résistance ≥ ≥ 18,18 MΩ·cm @ 25°C
Débit:
110 m³/H (Personnalisable)
Processus de base:
L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage
Composantes clés:
Modules à membrane RO, unités EDI
L'approvisionnement en électricité:
380V
Service après-vente:
garantie de deux ans
Mode de fonctionnement:
Entièrement automatique
CdT:
< 0,5 ppb
Particules:
≤1 particule/mL (>0,05 μm)
Oxygène dissous:
≤ 2 ppb
Détails d'emballage:
Casse en bois standard pour l'exportation
Mettre en évidence:

110 m3/h traitement de l'eau ultrapure

,

Edi Module traitement de l'eau ultrapure

,

Installation de traitement de l'eau de 110 m3/h

Description du produit

Améliorer l'efficacité de la filtration 110m3/h usine de traitement d'eau ultrapure pour le nettoyage des plaquettes de silicium avec module edi

 

I. Résumé
L'eau ultra-pure est un composant essentiel du nettoyage des plaquettes de silicium pour une production de cellules photovoltaïques efficaces et peu défectueuses.Son application détermine directement la propreté de la surface de la gaufre en silicium, la durée de vie des porteurs minoritaires, et finalement, l'efficacité des cellules.
Règle générale de l'industrie: pour chaque augmentation de 10 fois de la pureté de l'eau ultra-pure utilisée dans le nettoyage des plaquettes de silicium, les gains d'efficacité de la cellule atteignent 0.La compétitivité du photovoltaïque commence par la première goutte d'eau ultra-pure.??

 

II. Le processus
Chargement de la galette → Nettoyage par SC1 → Rinçage à l'eau ultrapure → Nettoyage à l'acide HF → Rinçage à l'eau ultrapure → Nettoyage par SC2 → Rinçage final à l'eau ultrapure → Séchage

 

III. Paramètres

Paramètre Valeur standard
Résistance ≥ 18,18 MΩ·cm @ 25°C
CdT < 0,5 ppb
Na+/K+ < 0,1 ppt
Fe3+/Al3+ < 0,05 ppt
Cl− < 0,1 ppb
Particules > 0,05 μm ≤ 1 particule/mL
Oxygène dissous ≤ 2 ppb

 

IV. Voici une ligne directrice pour vous permettre d'obtenir un bon devis
Indiquez l'eau brute/la source d'eau ((eau du robinet, eau de puits ou eau de mer, etc.)
Fournir un rapport d'analyse de l'eau ((TDS, conductivité ou résistivité, etc.)
Capacité de production requise ((5m3/h, 50m3/h ou 500m3/h, etc.)
Quelle est l'utilisation de l'eau pure (industrielle, alimentaire et des boissons, ou l'agriculture, etc.)