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1時間あたり10トンの産業用超純水製造システム(レーザー冷却用)
水質: | ≥18.2 MΩ・cm ((25°C) |
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流量: | 10m³/H(カスタマイズ可能) |
基本プロセス: | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 |
統合回路 再利用水システム RO UF 380V 調整可能
流量: | 0.25m³/h - 200m³/h(カスタマイズ可能) |
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生産された水の質: | 導電率 ≤ 15μs/cm |
コアテクノロジー: | RO+UF |
毎時90立方メートル工業用逆浸透膜システム + EDIモジュール フィルター
水質: | 抵抗率 ≥15-18.25 MΩ·cm |
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流量: | 90m3h(カスタマイズ可能) |
基本プロセス: | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 |