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電子機器産業のための工業用超純水システム
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x商品の詳細
| 水質 | 抵抗性 ≥18.2 MΩ·cm ((25°C) | 流量 | 70m3/h (カスタマイズ可能) |
|---|---|---|---|
| 基本プロセス | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 | 主要部分 | RO膜モジュール、EDIユニット |
| 電力供給 | 380v/220 | アフターサービス | 2年の保証 |
| 動作モード | 全自動 | トー・コ | 0.5ppb |
| 分解された酸素 | 5 Ppb | Ro 回復率 | >85% |
| ハイライト | 70T/H 超純水システム,超純水70T/Hの機械,電子機器産業 超純水システム |
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製品の説明
電子工業向けカスタム70トン/時工業用超純水処理システム
I. 概要
超純水（UPW）は、電子工業における半導体、ディスプレイパネル、集積回路製造のライフラインです。ナノスケール洗浄から原子レベルの堆積まで、その極めて高い純度が不可欠であり、電子機器製造の「見えないチップ」とも言えます。その純度は、製品の歩留まりと性能に直接影響します。
II. 主なプロセス
原水→前処理（凝集+沈殿+ろ過）→一次RO→二次RO→脱気→EDI→UV殺菌→限外ろ過→ポリッシング混合床→最終ろ過→水出口
III. パラメータ
| 抵抗率 | 18.2 MΩ・cm（25℃） | |||
| TOC | 0.5 ppb | |||
| 溶存酸素 | 5 ppb | |||
| RO回収率 | ＞85% | |||
| RO脱塩率 | 99.50% | |||
IV. 電子機器製造における超純水の重要な役割
ウェーハ洗浄
エッチング/リソグラフィ
化学的機械的研磨
イオン注入
蒸気酸化
V. 適切な見積もりを得るためのガイドライン
原水/水源（水道水、井戸水、海水など）をお知らせください
水質分析レポート（TDS、導電率、抵抗率など）をご提供ください
必要な生産能力（5m³/H、50m³/H、または500m³/Hなど）
純水の用途（工業用、食品・飲料、農業など）
