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Equipamento de água ultrapura para semicondutores de grande escala de 115 m3/h com módulo EDI

  • Large Scale 115m3/H Ultra Pure Water Equipment For Semiconductor With EDI Module
  • Large Scale 115m3/H Ultra Pure Water Equipment For Semiconductor With EDI Module
Lugar de origem Guangdong, China
Marca HongJie
Certificação ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Número do modelo HJ-UPWSe115T
Quantidade de ordem mínima >= 1 conjunto
Preço US$233900~US$239500
Detalhes da embalagem Caixa de madeira padrão de exportação
Tempo de entrega 1-7 dias úteis (dependem da existência de matérias-primas)
Termos de pagamento L/C,D/P,T/T,Western union
Habilidade da fonte >300 conjuntos/mês

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Detalhes do produto
Qualidade da água Resistividade ≥15-18,25 MΩ·cm Taxa de Fluxo 115 m3/h (customizável)
Processos essenciais Osmose inversa de dupla passagem + EDI + resina de polimento Componentes-chave Módulos de Membrana RO, Unidades EDI
Fornecimento de eletricidade 380 V Serviço pós-venda garantia de 2-ano
Modo de funcionamento Totalmente automático Características do produto Qualidade estável da água, baixo custo de exploração, desempenho fiável
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Equipamento de água ultrapura para semicondutores

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115 m3/h Equipamento de água ultra pura

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Sistemas de água ultrapura em larga escala
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Descrição de produto

Equipamento de água ultrapura de grande escala de 115 m3/h para semicondutores com módulo EDI

 

I. Introdução ao produto

Sistema de água ultrapura para a indústria de semicondutores
Projetado especificamente para limpeza de precisão na fabricação de semicondutores, o nosso sistema proporciona pureza de água que atende aos rigorosos padrões da indústria, incluindo:

 

  • ASTM (American Society for Testing and Materials)
  • GB/T 11446.1-2013 (Normas chinesas de água de qualidade eletrônica: 18MΩ·cm, 15MΩ·cm, 10MΩ·cm, 2MΩ·cm, 0.5MΩ·cm)
  • Normas Internacionais de Equipamentos e Materiais de Semicondutores (SEMI)
  • Especificações de fabrico de circuitos integrados

 

II. Processo e especificações do HJ-UPWSe115T

Configuração padrão:
Raw Water → Raw Water Tank → Booster Pump → Flocculant/Reducer Dosing → Activated Carbon Filter → Ultrafiltration (UF) → Scale Inhibitor Dosing → Security Filter → 1st Stage High-Pressure Pump → 1st Stage RO → pH Adjustment → Intermediate Tank → 2nd Stage High-Pressure Pump → 2nd Stage RO → Purified Water Tank → EDI Booster Pump → UV Sterilizer → Cartridge Filter → EDI System → Ultra-Pure Water Tank → Transfer Pump → TOC Removal Unit → Polishing Resin → Final Filter → Point of Use

 

Destaques do processo:

 

  • Pré-tratamento em várias fases: Remove partículas, compostos orgânicos e cloro para proteger as membranas RO.
  • Sistema RO duplo: Atinge a taxa de rejeição de sal para água de alta pureza consistente.
  • Tecnologia EDI: A eletro-deionização contínua elimina a necessidade de regeneração química.
  • Resina de polimento: Fase final de purificação para TOC ultrabaixo e contaminantes iónicos

 

III. Especificações

Ponto Especificações
Fornecimento de electricidade 380 V
Qualidade da água produzida Resistividade ≥ 15-18,25 MΩ·cm
Tecnologia de base Osmose inversa de dupla passagem + EDI + resina de polimento
Principais componentes Módulos de membrana RO, unidades EDI
Modo de operação Automático completo (controlado por PLC)
Características do produto Qualidade estável da água, baixo custo de exploração, desempenho fiável
Serviço pós-venda  Garantia de 2 anos para equipamento padrão 

 

EDI Foto:

 

Equipamento de água ultrapura para semicondutores de grande escala de 115 m3/h com módulo EDI 0

Equipamento de água ultrapura para semicondutores de grande escala de 115 m3/h com módulo EDI 1

Foto da RO:

Equipamento de água ultrapura para semicondutores de grande escala de 115 m3/h com módulo EDI 2

 

Detalhes de outros equipamentos de processo:

Equipamento de água ultrapura para semicondutores de grande escala de 115 m3/h com módulo EDI 3

 

IV. Vantagens do projecto

  1. Controle totalmente automatizado:
    • Ciclos automáticos de lavagem e regeneração.
    • Opção de substituição manual para manutenção.
  2. Cablagem integrada em fábrica:
    • Componentes pré-cableados reduzem o tempo de instalação no local.
  3. Características avançadas de manutenção:
    • O sistema de limpeza químico de RO prolonga a vida da membrana.
    • Os circuitos de recirculação garantem a estabilidade da qualidade da água.
  4. Materiais de primeira qualidade:
    • 304 de aço inoxidável e tubulações de UPVC para resistência à corrosão.
  5. Operação intuitiva:
    • Painel de controlo integrado com controlo em tempo real.
    • Opção de acesso remoto para solução de problemas.
  6. Baixa manutenção:
    • Componentes duráveis concebidos para operação contínua.

 

Equipamento de água ultrapura para semicondutores de grande escala de 115 m3/h com módulo EDI 4

 

V. Aqui está uma orientação para você obter uma cotação adequada
Diga-nos a água crua/fonte de água ((água de torneira, água de poço ou água do mar, etc.)
Fornecer relatório de análise de água ((TDS, condutividade ou resistividade, etc.)
Capacidade de produção necessária ((5m3/H, 50m3/H, ou 500m3/H, etc.)
Para que é utilizada a água pura (industrial, alimentar, agrícola, etc.)?
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Sistema de tratamento de água pura

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