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半導体のための超純水設備
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x商品の詳細
| 水質 | 抵抗率 ≥15-18.25 MΩ·cm | 流量 | 115m³/H（カスタマイズ可能） |
|---|---|---|---|
| 基本プロセス | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 | 主要部分 | RO膜モジュール、EDIユニット |
| 電力供給 | 380V | アフターサービス | 2年の保証 |
| 動作モード | 全自動 | 製品の特徴 | 安定した水質,低運用コスト,信頼性の高い性能 |
| ハイライト | 半導体用超純水設備,115m3/h 超純水設備,大規模な超純水システム |
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製品の説明
半導体用EDIモジュールのための超純水設備
I. 製品紹介
HJ-UPWSe115Tのプロセスと仕様
III 仕様
| ポイント | 仕様 | ||||||
| 電力供給 | 380V | ||||||
| 生産された水の質 | 抵抗性 ≥15-18.25 MΩ·cm | ||||||
| 基本技術 | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 | ||||||
| 主要な要素 | RO膜モジュール,EDIユニット | ||||||
| 動作モード | 全自動 (PLC制御) | ||||||
| 製品の特徴 | 安定した水質,低運用コスト,信頼性の高い性能 | ||||||
| 販売後サービス | 標準機器の2年間の保証 | ||||||
EDI 写真:
RO 写真:
他の加工機器の詳細:
IV デザインの利点