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半導体のための超純水設備

起源の場所 広東,中国
ブランド名 HongJie
証明 ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
モデル番号 HJ-UPWSe115T
最小注文数量 >=1セット
価格 US$233900~US$239500
パッケージの詳細 エクスポート標準 木製ケース
受渡し時間 1-7日 (原材料のストックによって異なります)
支払条件 L/C,D/P,T/T,ウェスタン・ユニオン
供給の能力 >300セット/月

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商品の詳細
水質 抵抗率 ≥15-18.25 MΩ·cm 流量 115m³/H(カスタマイズ可能)
基本プロセス 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 主要部分 RO膜モジュール、EDIユニット
電力供給 380V アフターサービス 2年の保証
動作モード 全自動 製品の特徴 安定した水質,低運用コスト,信頼性の高い性能
ハイライト

半導体用超純水設備

,

115m3/h 超純水設備

,

大規模な超純水システム

メッセージ
製品の説明

半導体用EDIモジュールのための超純水設備

 

I. 製品紹介

半導体産業のための超純水システム
半導体製造における精密浄化のために 特別に設計された このシステムは 厳格な業界基準を満たす 水の純度を保証します

 

  • ASTM (アメリカ試験材料協会)
  • GB/T 11446.1-2013 (中国の電子水質基準: 18MΩ·cm,15MΩ·cm,10MΩ·cm,2MΩ·cm,0.5MΩ·cm)
  • 半導体機器及び材料に関する国際規格 (SEMI)
  • 集積回路 (IC) の製造仕様

 

HJ-UPWSe115Tのプロセスと仕様

標準設定:
Raw Water → Raw Water Tank → Booster Pump → Flocculant/Reducer Dosing → Activated Carbon Filter → Ultrafiltration (UF) → Scale Inhibitor Dosing → Security Filter → 1st Stage High-Pressure Pump → 1st Stage RO → pH Adjustment → Intermediate Tank → 2nd Stage High-Pressure Pump → 2nd Stage RO → Purified Water Tank → EDI Booster Pump → UV Sterilizer → Cartridge Filter → EDI System → Ultra-Pure Water Tank → Transfer Pump → TOC Removal Unit → Polishing Resin → Final Filter → Point of Use

 

プロセス ハイライト:

 

  • 多段階前処理:RO膜を保護するために,粒子,有機物,および塩素を除去します.
  • 双重ROシステム: 高純度な水に塩の排斥率を保ちます
  • EDI テクノロジー: 継続的な電離化により化学再生の必要性がなくなります
  • 磨き樹脂超低TOCとイオン汚染物質の最終浄化段階

 

III 仕様

ポイント 仕様
電力供給 380V
生産された水の質 抵抗性 ≥15-18.25 MΩ·cm
基本技術 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂
主要な要素 RO膜モジュール,EDIユニット
動作モード 全自動 (PLC制御)
製品の特徴 安定した水質,低運用コスト,信頼性の高い性能
販売後サービス  標準機器の2年間の保証 

 

EDI 写真:

 

半導体のための超純水設備 0

半導体のための超純水設備 1

RO 写真:

半導体のための超純水設備 2

 

他の加工機器の詳細:

半導体のための超純水設備 3

 

IV デザインの利点

  1. 完全自動制御:
    • 自動反洗と再生サイクル
    • メンテナンスのための手動オーバーライドオプション
  2. 工場統合ワイヤリング:
    • 前もって配線されたコンポーネントは 敷地内の設置時間を短縮します
  3. 先進的なメンテナンス機能:
    • 化学浄化システムにより膜の寿命が延びます
    • 循環回路は水質の安定を保証します
  4. プレミアム素材:
    • 耐腐蝕性のある 304 ステンレス鋼と UPVC 管材
  5. 直感的な操作:
    • リアルタイムモニタリングを備えた 統合制御パネル
    • トラブルシューティングのためのリモートアクセスオプション.
  6. 維持費 の 低さ:
    • 継続的な動作のために設計された耐久性のある部品.

 

半導体のための超純水設備 4

 

V.ここに適切な引金を取得するためのガイドラインがあります
生水/水の源を教えて下さい (水道水,井戸水,海水など)
水分析報告 (TDS,導電性,抵抗性など) を提供する.
必要な生産能力 ((5m3/h,50m3/h,または500m3/h,など)
純粋な水は何のために使われますか (産業,食品,飲料,農業など)