Einzelheiten zu den Produkten

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Ausrüstung für Ultrareinwasser
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Industrielle Ultra-reine Wasseranlage für Lithographie

Industrielle Ultra-reine Wasseranlage für Lithographie

Markenname: HongJie
Modellnummer: HJ-UPWSe50T
MOQ: >=1Sets
Preis: US$44000~US$44500
Zahlungsbedingungen: L/C, D/P, T/T, Western Union
Versorgungsfähigkeit: > 300 Stück/Monat
Detailinformationen
Herkunftsort:
Shenzhen, China
Zertifizierung:
ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Flussrate:
50 m³/h (Anpassbar)
Wasserqualität:
Widerstand ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C)
Kernprozess:
Umkehrosmose + EDI + Polierharz
Schlüsselkomponenten:
RO-Membranmodule, EDI-Einheiten
Elektrizitätsversorgung:
380 V/220 V
Dienstleistungen nach dem Verkauf:
2-jährige Garantie
Betriebsmodus:
Vollautomatik
Produktmerkmale:
Stabile Wasserqualität, geringe Betriebskosten, zuverlässige Leistung
Zentrale Position:
< 0,5 ppb (Verbrauch von Tauchflüssigkeit < 1 ppt)
Feinstaub:
> 0,05 μm Partikel < 1 pro ml
Verpackung Informationen:
Holzgehäuse für den Ausfuhrstandard
Hervorheben:

Ultra-reine Wassergeräte für Lithographie

,

20 T/h Ultra-reines Wassergerät

,

Maßgeschneiderte ultra-reine Wassermaschine

Produktbeschreibung

I.Übersicht
Ultrareines Wasser spielt eine unverzichtbare und entscheidende Rolle im Lithographieprozess.und Lithographieklasse ultra-reines Wasser dient als die grundlegende Garantie für die Weiterentwicklung von “Moore's Gesetz, ∆ mit fast strengen Anforderungen an Reinheit und chemische Reinheit.ist das ideale Medium, um diesen strengen Anforderungen gerecht zu werdenSeine höchste Reinheit ist die grundlegende Garantie für präzise, fehlerfreie Lithographie-Muster und hohe Ausbeute.

 

II.Verfahren
Raw water → Multi-stage filtration → Reverse osmosis (RO) → Electrodeionization (EDI) → UV-ozone synergistic oxidation → Membrane degassing → Dual-stage mixed-bed polishing → Terminal filtration → Nitrogen-sealed water tank

 

III.Parameter

Parameter Erforderlicher Wert
Widerstand ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C)
Gesamtorganischer Kohlenstoff (TOC) < 0,5 ppb (Verbrauch von Tauchflüssigkeit < 1 ppt)
Partikelstoff > 0,05 μm Partikel < 1 pro ml
Aufgelöster Sauerstoff (DO) < 5 ppb
Bacterialgehalt < 0,01 CFU/ml
Siliziumdioxid (SiO2) < 1 ppb
Bor/Natriumionen < 10 ppt

 

IV.Anwendungsszenarien
Waferreinigung
Waschen nach der Entwicklung
Verdünnung und Herstellung von Photoresisten/Chemikalien
Reinigung von Geräten und Komponenten

 

V. Hier ist eine Anleitung für Sie ein ordentliches Angebot zu bekommen
Sagen Sie uns das Rohwasser/die Wasserquelle ((Kranwasser, Brunnenwasser oder Meerwasser usw.))
Bereitstellung eines Wasseranalyseberichts (TDS, Leitfähigkeit oder Widerstandsfähigkeit usw.)
Erforderliche Produktionskapazität ((5m3/h, 50m3/h oder 500m3/h usw.)
Was ist das reine Wasser für ((Industrie, Lebensmittel und Getränke, oder Landwirtschaft, etc.)