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Herr Wieslaw AlexSehr schöne Umkehrosmoseanlage! Der Lieferant bietet einen außergewöhnlichen Service und technische Unterstützung. Perfekter Kauf! -
Herr Ismail HakkiWir arbeiten derzeit mit Shenzhen Hongjie an einem Projekt und können ohne zu zögern sagen, dass sie die besten Wasserfiltersysteme aus China anbieten. Ihre Geräte sind gut konstruiert, zuverlässig und liefern eine konstante Leistung – egal ob für industrielle, kommerzielle oder spezielle Anwendungen.
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- Was ist los?Gute Wasserreinigungsfirma! wenn ich auf Probleme stoße, können sie mir immer die schnellsten Lösungen anbieten. sehr professionell
Industrielle Ultra-reine Wasseranlage für Lithographie
| Herkunftsort | Shenzhen, China |
|---|---|
| Markenname | HongJie |
| Zertifizierung | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
| Modellnummer | HJ-UPWSe50T |
| Min Bestellmenge | >=1Sets |
| Preis | US$44000~US$44500 |
| Verpackung Informationen | Holzgehäuse für den Ausfuhrstandard |
| Lieferzeit | 1-7 Werktage (abhängig von der Lagerhaltung der Rohmaterialien) |
| Zahlungsbedingungen | L/C, D/P, T/T, Western Union |
| Versorgungsmaterial-Fähigkeit | > 300 Stück/Monat |
Kontaktieren Sie mich für kostenlose Proben und Gutscheine.
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xProduktdetails
| Flussrate | 50 m³/h (Anpassbar) | Wasserqualität | Widerstand ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C) |
|---|---|---|---|
| Kernprozess | Umkehrosmose + EDI + Polierharz | Schlüsselkomponenten | RO-Membranmodule, EDI-Einheiten |
| Elektrizitätsversorgung | 380 V/220 V | Dienstleistungen nach dem Verkauf | 2-jährige Garantie |
| Betriebsmodus | Vollautomatik | Produktmerkmale | Stabile Wasserqualität, geringe Betriebskosten, zuverlässige Leistung |
| Zentrale Position | < 0,5 ppb (Verbrauch von Tauchflüssigkeit < 1 ppt) | Feinstaub | > 0,05 μm Partikel < 1 pro ml |
| Hervorheben | Ultra-reine Wassergeräte für Lithographie,20 T/h Ultra-reines Wassergerät,Maßgeschneiderte ultra-reine Wassermaschine |
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Produkt-Beschreibung
I.Übersicht
Ultrareines Wasser spielt eine unverzichtbare und entscheidende Rolle im Lithographieprozess.und Lithographieklasse ultra-reines Wasser dient als die grundlegende Garantie für die Weiterentwicklung von Moore's Gesetz, ∆ mit fast strengen Anforderungen an Reinheit und chemische Reinheit.ist das ideale Medium, um diesen strengen Anforderungen gerecht zu werdenSeine höchste Reinheit ist die grundlegende Garantie für präzise, fehlerfreie Lithographie-Muster und hohe Ausbeute.
II.Verfahren
Raw water → Multi-stage filtration → Reverse osmosis (RO) → Electrodeionization (EDI) → UV-ozone synergistic oxidation → Membrane degassing → Dual-stage mixed-bed polishing → Terminal filtration → Nitrogen-sealed water tank
III.Parameter
| Parameter | Erforderlicher Wert |
| Widerstand | ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C) |
| Gesamtorganischer Kohlenstoff (TOC) | < 0,5 ppb (Verbrauch von Tauchflüssigkeit < 1 ppt) |
| Partikelstoff | > 0,05 μm Partikel < 1 pro ml |
| Aufgelöster Sauerstoff (DO) | < 5 ppb |
| Bacterialgehalt | < 0,01 CFU/ml |
| Siliziumdioxid (SiO2) | < 1 ppb |
| Bor/Natriumionen | < 10 ppt |
IV.Anwendungsszenarien
Waferreinigung
Waschen nach der Entwicklung
Verdünnung und Herstellung von Photoresisten/Chemikalien
Reinigung von Geräten und Komponenten
V. Hier ist eine Anleitung für Sie ein ordentliches Angebot zu bekommen
Sagen Sie uns das Rohwasser/die Wasserquelle ((Kranwasser, Brunnenwasser oder Meerwasser usw.))
Bereitstellung eines Wasseranalyseberichts (TDS, Leitfähigkeit oder Widerstandsfähigkeit usw.)
Erforderliche Produktionskapazität ((5m3/h, 50m3/h oder 500m3/h usw.)
Was ist das reine Wasser für ((Industrie, Lebensmittel und Getränke, oder Landwirtschaft, etc.)
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