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Industrielle Ultra-reine Wasseranlage für Lithographie
| Herkunftsort | Shenzhen, China |
|---|---|
| Markenname | HongJie |
| Zertifizierung | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
| Modellnummer | HJ-UPWSe50T |
| Min Bestellmenge | >=1Sets |
| Preis | US$44000~US$44500 |
| Verpackung Informationen | Holzgehäuse für den Ausfuhrstandard |
| Lieferzeit | 1-7 Werktage (abhängig von der Lagerhaltung der Rohmaterialien) |
| Zahlungsbedingungen | L/C, D/P, T/T, Western Union |
| Versorgungsmaterial-Fähigkeit | > 300 Stück/Monat |
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xProduktdetails
| Flussrate | 50 m³/h (Anpassbar) | Wasserqualität | Widerstand ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C) |
|---|---|---|---|
| Kernprozess | Umkehrosmose + EDI + Polierharz | Schlüsselkomponenten | RO-Membranmodule, EDI-Einheiten |
| Elektrizitätsversorgung | 380 V/220 V | Dienstleistungen nach dem Verkauf | 2-jährige Garantie |
| Betriebsmodus | Vollautomatik | Produktmerkmale | Stabile Wasserqualität, geringe Betriebskosten, zuverlässige Leistung |
| Zentrale Position | < 0,5 ppb (Verbrauch von Tauchflüssigkeit < 1 ppt) | Feinstaub | > 0,05 μm Partikel < 1 pro ml |
| Hervorheben | Ultra-reine Wassergeräte für Lithographie,20 T/h Ultra-reines Wassergerät,Maßgeschneiderte ultra-reine Wassermaschine |
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Produkt-Beschreibung
I.Übersicht
Ultrareines Wasser spielt eine unverzichtbare und entscheidende Rolle im Lithographieprozess.und Lithographieklasse ultra-reines Wasser dient als die grundlegende Garantie für die Weiterentwicklung von Moore's Gesetz, ∆ mit fast strengen Anforderungen an Reinheit und chemische Reinheit.ist das ideale Medium, um diesen strengen Anforderungen gerecht zu werdenSeine höchste Reinheit ist die grundlegende Garantie für präzise, fehlerfreie Lithographie-Muster und hohe Ausbeute.
II.Verfahren
Raw water → Multi-stage filtration → Reverse osmosis (RO) → Electrodeionization (EDI) → UV-ozone synergistic oxidation → Membrane degassing → Dual-stage mixed-bed polishing → Terminal filtration → Nitrogen-sealed water tank
III.Parameter
| Parameter | Erforderlicher Wert |
| Widerstand | ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C) |
| Gesamtorganischer Kohlenstoff (TOC) | < 0,5 ppb (Verbrauch von Tauchflüssigkeit < 1 ppt) |
| Partikelstoff | > 0,05 μm Partikel < 1 pro ml |
| Aufgelöster Sauerstoff (DO) | < 5 ppb |
| Bacterialgehalt | < 0,01 CFU/ml |
| Siliziumdioxid (SiO2) | < 1 ppb |
| Bor/Natriumionen | < 10 ppt |
IV.Anwendungsszenarien
Waferreinigung
Waschen nach der Entwicklung
Verdünnung und Herstellung von Photoresisten/Chemikalien
Reinigung von Geräten und Komponenten
V. Hier ist eine Anleitung für Sie ein ordentliches Angebot zu bekommen
Sagen Sie uns das Rohwasser/die Wasserquelle ((Kranwasser, Brunnenwasser oder Meerwasser usw.))
Bereitstellung eines Wasseranalyseberichts (TDS, Leitfähigkeit oder Widerstandsfähigkeit usw.)
Erforderliche Produktionskapazität ((5m3/h, 50m3/h oder 500m3/h usw.)
Was ist das reine Wasser für ((Industrie, Lebensmittel und Getränke, oder Landwirtschaft, etc.)
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