Hochreine industrielle Wasseraufbereitungsanlage 15 m3/h Reinstwassersystem für galvanische Lösungen

I. Überblick
In der High-End-Galvanik hat sich Reinstwasser von einem „Hintergrundlösungsmittel“ zu einem kritischen Prozessmaterial entwickelt. Die Erfüllung des 18,2 MΩ·cm-Widerstandsstandards ist lediglich die Grundvoraussetzung. Die Fähigkeit, spezifische Verunreinigungen (wie Cl⁻, Na⁺ und Partikel) im Parts-per-Billion-Bereich (ppb) zu kontrollieren, bestimmt direkt, ob die Plattierungsschicht die Zertifizierung nach JESD22-A120 (Chip-Zuverlässigkeit) oder IPC-6012 (PCB-Haltbarkeit) bestehen kann. 
Reinstwasser (Widerstand ≥ 18,2 MΩ·cm) spielt eine zentrale Rolle in High-End-Galvanikprozessen, insbesondere in der Halbleiterverpackung, der PCB-Mikroloch-Kupferplattierung und bei Anwendungen zur Veredelung von Edelmetallen. Seine Anwendung wirkt sich direkt auf die Plattierungsqualität, die Haftung und die Produktausbeute aus.

II. Hauptprozess
RO-Produktwasser → Chelat-Harzturm → Spezielles Silica - Entfernung von Harz → Mischbett in Nuklearqualität  → Vakuum-Entgasung → Endfiltration 0,1 μm 

III. Parameter

IV. Die Kernfunktionen von Reinstwasser in galvanischen Lösungen
Lösungsmittelmatrix
Kontaminationskontrolle
Elektrochemische Stabilität

V. Hier ist eine Richtlinie für Sie, um ein passendes Angebot zu erhalten
Teilen Sie uns das Rohwasser/die Wasserquelle mit (Leitungswasser, Brunnenwasser oder Meerwasser usw.)
Stellen Sie einen Wasseranalysebericht bereit (TDS, Leitfähigkeit oder Widerstand usw.)
Erforderliche Produktionskapazität (5 m³/h, 50 m³/h oder 500 m³/h usw.)
Wofür wird das Reinwasser verwendet (Industrie, Lebensmittel und Getränke oder Landwirtschaft usw.)