Hochreine industrielle Wasseraufbereitungsanlage 15 m3/h Reinstwassersystem für galvanische Lösungen
Herkunftsort | Shenzhen, China |
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Markenname | HJW |
Zertifizierung | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
Min Bestellmenge | 1 Satz |
Preis | US$32000~US$32500 |
Verpackung Informationen | Holzgehäuse für den Ausfuhrstandard |
Lieferzeit | 1-7 Werktage (abhängig von der Lagerhaltung der Rohmaterialien) |
Zahlungsbedingungen | L/C, D/P, T/T, Western Union |
Versorgungsmaterial-Fähigkeit | > 300 Stück/Monat |

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xFlussrate | 15 m³/h (Anpassbar) | Wasserqualität | Widerstand ≥≥18,2 MΩ·cm (25°C) |
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Kernprozess | Doppelpass-Umkehrosmose + EDI + Polierharz | Kernkomponenten | RO-Membranmodule, EDI-Einheiten |
Betriebsmodus | Völlig automatisiert | Produktmerkmale | Stabile Wasserqualität, niedrige Betriebskosten |
Stromversorgung | 220V/380V/440V | Material | SUS304/UPVC |
Hervorheben | Industrielle Ultrareinwasser-Ausrüstung,Anpassbare Ultrareinwasser-Systeme |
I. Überblick
In der High-End-Galvanik hat sich Reinstwasser von einem „Hintergrundlösungsmittel“ zu einem kritischen Prozessmaterial entwickelt. Die Erfüllung des 18,2 MΩ·cm-Widerstandsstandards ist lediglich die Grundvoraussetzung. Die Fähigkeit, spezifische Verunreinigungen (wie Cl⁻, Na⁺ und Partikel) im Parts-per-Billion-Bereich (ppb) zu kontrollieren, bestimmt direkt, ob die Plattierungsschicht die Zertifizierung nach JESD22-A120 (Chip-Zuverlässigkeit) oder IPC-6012 (PCB-Haltbarkeit) bestehen kann.
Reinstwasser (Widerstand ≥ 18,2 MΩ·cm) spielt eine zentrale Rolle in High-End-Galvanikprozessen, insbesondere in der Halbleiterverpackung, der PCB-Mikroloch-Kupferplattierung und bei Anwendungen zur Veredelung von Edelmetallen. Seine Anwendung wirkt sich direkt auf die Plattierungsqualität, die Haftung und die Produktausbeute aus.
II. Hauptprozess
RO-Produktwasser → Chelat-Harzturm → Spezielles Silica - Entfernung von Harz → Mischbett in Nuklearqualität → Vakuum-Entgasung → Endfiltration 0,1 μm
III. Parameter
Parameter | Standardwert | |||
Widerstand | ≥18,2 MΩ·cm (25°C) | |||
TOC | ≤1 ppb | |||
Partikel | ≤5 Partikel/ml (≥0,1 μm) | |||
Metallionen | Cu/Fe/Ni < 0,1 ppb | |||
Na⁺/K⁺ < 0,05 ppb | ||||
Anionen | Cl⁻ < 0,1 ppb | |||
SO₄²⁻ < 0,2 ppb | ||||
Silikat | SiO₂ < 1 ppb |
IV. Die Kernfunktionen von Reinstwasser in galvanischen Lösungen
Lösungsmittelmatrix
Kontaminationskontrolle
Elektrochemische Stabilität
V. Hier ist eine Richtlinie für Sie, um ein passendes Angebot zu erhalten
Teilen Sie uns das Rohwasser/die Wasserquelle mit (Leitungswasser, Brunnenwasser oder Meerwasser usw.)
Stellen Sie einen Wasseranalysebericht bereit (TDS, Leitfähigkeit oder Widerstand usw.)
Erforderliche Produktionskapazität (5 m³/h, 50 m³/h oder 500 m³/h usw.)
Wofür wird das Reinwasser verwendet (Industrie, Lebensmittel und Getränke oder Landwirtschaft usw.)