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Impianto di purificazione dell'acqua industriale ad alta purezza 15m3h sistema di acqua ultra pura per soluzioni di galvanica

  • High Purity industrial water purification plant 15m3h ultra pure water system for electroplating solutions
  • High Purity industrial water purification plant 15m3h ultra pure water system for electroplating solutions
  • High Purity industrial water purification plant 15m3h ultra pure water system for electroplating solutions
Luogo di origine Shenzhen, Cina
Marca HJW
Certificazione ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Quantità di ordine minimo 1 set
Prezzo US$32000~US$32500
Imballaggi particolari Cassa in legno standard di esportazione
Tempi di consegna 1-7 giorni lavorativi (dipende dalla disponibilità di materie prime)
Termini di pagamento L/C,D/P,T/T,Western union
Capacità di alimentazione > 300 serie/mese

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Dettagli
Portata 15 m³/h (Personalizzabile) Qualità dell'acqua Resistività ≥≥18.2 MΩ·cm (25°C)
Processo di base Osmosi inversa a doppio passaggio + EDI + resina di lucidatura Componenti fondamentali Moduli a membrana RO, unità EDI
Modalità di funzionamento Completamente automatizzato Caratteristiche del prodotto Produzione di acqua di qualità stabile, Bassi costi operativi
Alimentazione 220V/380V/440V Materiale SUS304/UPVC
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Apparecchiature industriali per acqua ultra pura

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Sistemi di acqua ultrapura personalizzabili
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Descrizione di prodotto

I. Panoramica
Nell'industria galvanica di fascia alta, l'acqua ultrapura si è evoluta da un “solvente di fondo” a un materiale di processo critico. Soddisfare lo standard di resistività di 18,2 MΩ·cm è semplicemente il requisito di base. La capacità di controllare impurità specifiche (come Cl⁻, Na⁺ e particolato) a livello di parti per miliardo (ppb) determina direttamente se lo strato di placcatura può superare la certificazione JESD22-A120 (affidabilità dei chip) o IPC-6012 (durata dei PCB).
L'acqua ultrapura (resistività ≥ 18,2 MΩ·cm) gioca un ruolo centrale nei processi di galvanica di fascia alta, in particolare nel packaging dei semiconduttori, nella placcatura del rame a microfori dei PCB e nelle applicazioni di finitura dei metalli preziosi. La sua applicazione influisce direttamente sulla qualità della placcatura, sull'adesione e sulla resa del prodotto.


II. Processo principale
Acqua di prodotto RO → Torre di resina chelante → Silice speciale - Rimozione resina → Letto misto di grado nucleare  → Deossigenazione sottovuoto → Filtrazione terminale 0,1μm 


III. Parametri

Parametro Valore standard
Resistività ≥18,2 MΩ·cm (25°C)
TOC ≤1 ppb
Particelle ≤5 particelle/mL (≥0,1μm)
Ioni metallici Cu/Fe/Ni < 0,1 ppb
Na⁺/K⁺ < 0,05 ppb
Anioni Cl⁻ < 0,1 ppb
SO₄²⁻ < 0,2 ppb
Silicato SiO₂ < 1 ppb


IV. Le funzioni principali dell'acqua ultrapura nelle soluzioni di galvanica
Matrice solvente
Controllo dei contaminanti
Stabilità elettrochimica


V. Ecco una guida per ottenere un preventivo adeguato
Comunicaci l'acqua grezza/fonte d'acqua (acqua di rubinetto, acqua di pozzo o acqua di mare, ecc.)
Fornisci un rapporto di analisi dell'acqua (TDS, conducibilità o resistività, ecc.)
Capacità di produzione richiesta (5m³/H, 50m³/H o 500m³/H, ecc.)
Per cosa viene utilizzata l'acqua pura (industriale, alimentare e bevande o agricoltura, ecc.)


Etichette:

Apparecchiature per l'acqua ultrapura

Sistema di trattamento dell'acqua pura

Sistema di acqua purificata