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50 घन मीटर/घंटा स्वचालित अल्ट्राप्योर वाटर सिस्टम जिसमें EDI मॉड्यूल है
| प्रवाह दर: | 50m the/h (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| पानी की गुणवत्ता: | चालकता .31.3 μS/सेमी (25 डिग्री सेल्सियस) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |
चिप उद्योग के लिए आरओ मशीन + ईडीआई यूनिट के साथ अल्ट्राप्योर वाटर ट्रीटमेंट उपकरण 8000gph
| प्रवाह दर: | 30M/H (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| प्रतिरोधकता (25 ° C): | ≥18.2 Mω · सेमी (शुद्ध पानी का सैद्धांतिक अधिकतम मूल्य) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |
20M3/H बायोफार्मास्युटिकल विनिर्माण के लिए एकीकृत आरओ ईडीआई अल्ट्रा शुद्ध जल प्रणाली
| प्रवाह दर: | 20M/H (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| पानी की गुणवत्ता: | चालकता ＜ 5US/सेमी |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |
गुआंग्सी बिजली संयंत्रों के लिए पूर्ण स्वचालित 25m3/H अल्ट्रा शुद्ध जल उपकरण
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता .15-18.25 M · · cm |
|---|---|
| प्रवाह दर: | 25m the/h (अनुकूलन योग्य) |
| ज़रूरी भाग: | आरओ मेम्ब्रेन मॉड्यूल, ईडीआई इकाइयाँ |
परमाणु अवशोषण स्पेक्ट्रोस्कोपी एएएस के लिए सीई/आईएसओ 5000 एलपीएच औद्योगिक जल शोधक
| प्रवाह दर: | 5m g/h (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता (25 डिग्री सेल्सियस) ≥18.24 M · · cm |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |
1000L/H अल्ट्रा प्योर वाटर इक्विपमेंट फॉर मोबाइल फेज़ प्रिपरेशन ऑफ़ प्रेसिजन इंस्ट्रूमेंट्स
| प्रवाह दर: | 1m g/h (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| प्रतिरोधकता: | ≥ 18.2 Mω · cm @ 25 ° C (मूल) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |
अनुकूलन योग्य 100 टन प्रति घंटे लिथियम बैटरी उद्योग के लिए अतिशुद्ध जल प्रणाली
| प्रवाह दर: | 100t |
|---|---|
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता .10-18.25 Mω · cm |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
वेफर निर्माण के लिए ऊर्जा कुशल 7 टन/घंटा अल्ट्राप्योर वाटर ट्रीटमेंट प्लांट
| प्रवाह दर: | 7M/H (अनुकूलन योग्य) |
|---|---|
| प्रतिरोधकता (25 ° C): | ≈18.24 Mω · cm |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई |
ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स क्षेत्र के लिए उच्च क्षमता 120m3/H औद्योगिक अतिशुद्ध जल शोधन प्रणाली
| पानी की गुणवत्ता: | प्रतिरोधकता .15-18.25 M · · cm |
|---|---|
| प्रवाह दर: | 120m and/h (अनुकूलन योग्य) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |
उच्च प्रदर्शन 80 टन/घंटा अल्ट्रा प्योर वाटर उपकरण फोटोवोल्टिक सेल के उत्पादन के लिए
| प्रतिरोधकता: | ≥18.18 Mω · cm (25 ° C) |
|---|---|
| प्रवाह दर: | 80M/H (अनुकूलन योग्य) |
| कोर प्रक्रिया: | डबल-पास रिवर्स ऑस्मोसिस + ईडीआई + पॉलिशिंग राल |