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Accessori per apparecchiature di trattamento delle acque
50 m3/h sistemi automatizzati di acqua ultrapura con modulo di elettrodeionizzazione
| Portata: | 50 m³/h (Personalizzabile) |
|---|---|
| Qualità dell'acqua: | Conducibilità < ≤ 1,3 μS/cm ((25°C) |
| Processo di base: | Osmosi inversa a doppio passaggio + EDI |
Apparecchiature per il trattamento dell'acqua ultrapura 8000gph per l'industria dei chip con macchina ad osmosi inversa + unità EDI
| Portata: | 30 m³/h (Personalizzabile) |
|---|---|
| Resistenza (25°C): | ≥18.2 MΩ·cm (Valore massimo teorico dell'acqua pura) |
| Processo di base: | Osmosi inversa a doppio passaggio + EDI |
20M3/H Sistema integrato RO EDI di acqua ultra-purificata per la produzione di prodotti biofarmacicici
| Portata: | 20 m³/h (Personalizzabile) |
|---|---|
| Qualità dell'acqua: | conduttività＜5us/cm |
| Processo di base: | Osmosi inversa a doppio passaggio + EDI |
Apparecchiature ad acqua ultra pura a 25 m3/h completamente automatiche per le centrali elettriche del Guangxi
| Qualità dell'acqua: | Resistenza ≥ 15-18,25 MΩ·cm |
|---|---|
| Portata: | 25 m3/h (personalizzabile) |
| Componenti chiavi: | Moduli a membrana RO, unità EDI |
Purificatore d'acqua industriale CE/ISO 5000LPH per spettroscopia di assorbimento atomico AAS
| Portata: | 5 m³/h (Personalizzabile) |
|---|---|
| Qualità dell'acqua: | Resistenza (25°C) ≥ 18,24 MΩ·cm |
| Processo di base: | Osmosi inversa a doppio passaggio + EDI |
Apparecchiature per l'acqua ultrapura da 1000L/h per la preparazione di fasi mobili di strumenti di precisione
| Portata: | 1 m³/h (Personalizzabile) |
|---|---|
| Resistenza: | ≥ 18.2 MΩ·cm @ 25°C (base) |
| Processo di base: | Osmosi inversa a doppio passaggio + EDI |
Sistemi di acqua ultrapura personalizzabili da 100 tonnellate all'ora per l'industria delle batterie al litio
| Portata: | 100 t |
|---|---|
| Qualità dell'acqua: | Resistenza ≥ 10-18,25 MΩ·cm |
| Processo di base: | Osmosi inversa a doppio passaggio + EDI + resina di lucidatura |
Impianto di trattamento dell'acqua ultrapura ad efficienza energetica di 7 t/h per la produzione di wafer
| Portata: | 7 m³/h (Personalizzabile) |
|---|---|
| Resistenza (25°C): | ≈18,24 MΩ·cm |
| Processo di base: | Osmosi inversa a doppio passaggio + EDI |
Sistema industriale di depurazione dell'acqua ultrapura ad alta capacità 120 m3/h per il campo dell'optoelettronica
| Qualità dell'acqua: | Resistenza ≥ 15-18,25 MΩ·cm |
|---|---|
| Portata: | 120 m3/h (personalizzabile) |
| Processo di base: | Osmosi inversa a doppio passaggio + EDI + resina di lucidatura |
Impianto ad alte prestazioni da 80 tonnellate/ora per acqua ultra pura per la produzione di celle fotovoltaiche
| Resistenza: | ≥18.18 MΩ·cm (25°C) |
|---|---|
| Portata: | 80m³/H (Personalizzabile) |
| Processo di base: | Osmosi inversa a doppio passaggio + EDI + resina di lucidatura |