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Sistemas automatizados de agua ultrapura de 50 m3/h con módulo de electrodeionización
| Tasa de flujo: | 50m³/h (Personalizable) |
|---|---|
| Calidad del agua: | conductividad <≤ 1,3 μS/cm ((25°C) |
| Proceso básico: | Osmosis inversa de doble paso + EDI |
Equipo de tratamiento de agua ultrapura 8000gph para la industria de chips con máquina de ósmosis inversa + unidad EDI
| Tasa de flujo: | 30 m3/h (customizable) |
|---|---|
| Resistencia (25°C): | ≥ 18,2 MΩ·cm (valor máximo teórico del agua pura) |
| Proceso básico: | Osmosis inversa de doble paso + EDI |
20M3/H Sistema integrado de agua ultrapurificada RO EDI para la fabricación de productos biofarmacéuticos
| Tasa de flujo: | 20 m³/h (Personalizable) |
|---|---|
| Calidad del agua: | conductividad＜5us/cm |
| Proceso básico: | Osmosis inversa de doble paso + EDI |
Equipo de agua ultrapura totalmente automático de 25 m3/h para centrales eléctricas de Guangxi
| Calidad del agua: | Resistividad ≥15-18.25 MΩ·cm |
|---|---|
| Tasa de flujo: | 25m³/H (Personalizable) |
| Componentes claves: | Módulos de membrana RO, unidades EDI |
Purificador de agua industrial CE/ISO 5000LPH para espectroscopía de absorción atómica AAS
| Tasa de flujo: | 5 m3/h (customizable) |
|---|---|
| Calidad del agua: | Resistencia (25°C) ≥ 18,24 MΩ·cm |
| Proceso básico: | Osmosis inversa de doble paso + EDI |
Equipo de agua ultrapura de 1000L/h para la preparación de fases móviles de instrumentos de precisión
| Tasa de flujo: | 1 m³/h (Personalizable) |
|---|---|
| Resistencia: | ≥ 18.2 MΩ·cm @ 25°C (básico) |
| Proceso básico: | Osmosis inversa de doble paso + EDI |
Sistemas de agua ultrapura personalizables de 100 toneladas por hora para la industria de baterías de litio
| Tasa de flujo: | 100 toneladas |
|---|---|
| Calidad del agua: | Resistividad ≥10-18.25 MΩ·cm |
| Proceso básico: | Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido |
Planta de tratamiento de agua ultrapura de 7 toneladas/h de eficiencia energética para fabricación de obleas
| Tasa de flujo: | 7m3/h (customizable) |
|---|---|
| Resistencia (25°C): | ≈ 18,24 MΩ·cm |
| Proceso básico: | Osmosis inversa de doble paso + EDI |
Sistema de purificación de agua ultrapura industrial de alta capacidad 120 m3/h para el campo de la optoelectrónica
| Calidad del agua: | Resistividad ≥15-18.25 MΩ·cm |
|---|---|
| Tasa de flujo: | 120 m3/h (se puede personalizar) |
| Proceso básico: | Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido |
Equipo de agua ultrapura de alto rendimiento de 80 toneladas/h para la producción de células fotovoltaicas
| Resistencia: | ≥18.18 MΩ·cm (25°C) |
|---|---|
| Tasa de flujo: | El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de ef |
| Proceso básico: | Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido |