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50m3/h 自動化超純水システム 電子イオン化モジュール
| 流量: | 50m3/h (カスタマイズ可能) |
|---|---|
| 水質: | 導電性<≤1.3 μS/cm ((25°C) |
| 基本プロセス: | 二重通過逆浸透膜 + EDI |
超純水処理設備 8000gph チップ産業用 ROマシン+EDIユニット
| 流量: | 30m³/h（カスタマイズ可能） |
|---|---|
| 耐性 (25°C): | ≥18.2 MΩ·cm（純水の理論最大値） |
| 基本プロセス: | 二重通過逆浸透膜 + EDI |
CE/ISO 5000LPH 産業用水浄機 原子吸収スペクトロスコピー AAS
| 流量: | 5m3/h (カスタマイズ可能) |
|---|---|
| 水質: | 抵抗率 (25℃) ≧18.24 MΩ·cm |
| 基本プロセス: | 二重通過逆浸透膜 + EDI |
高容量 120m3/H 産業用超純水浄化システム 光電子分野
| 水質: | 抵抗率 ≥15-18.25 MΩ·cm |
|---|---|
| 流量: | 120m3/h (カスタマイズ可能) |
| 基本プロセス: | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 |