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Sistemas automatizados de água ultrapura de 50 m3/h com módulo de eletrodeionização
| Taxa de Fluxo: | 50 m3/h (customizável) |
|---|---|
| Qualidade da água: | condutividade＜≤1.3 μs/cm (25°C) |
| Processos essenciais: | Osmose Reversa de Duplo Passe + EDI |
Equipamento de tratamento de água ultrapuro 8000gph para a indústria de chips com máquina RO + unidade EDI
| Taxa de Fluxo: | 30m³/h (Personalizável) |
|---|---|
| Resistividade (25°C): | ≥18,2 MΩ·cm (Valor máximo teórico da água pura) |
| Processos essenciais: | Osmose Reversa de Duplo Passe + EDI |
Sistema de Água Ultra Pura RO EDI Integrado de 20M3/H para Fabricação Biofarmacêutica
| Taxa de Fluxo: | 20m³/h (Personalizável) |
|---|---|
| Qualidade da água: | condutividade＜5us/cm |
| Processos essenciais: | Osmose Reversa de Duplo Passe + EDI |
Equipamento totalmente automático de água ultra pura de 25 m3/h para usinas de Guangxi
| Qualidade da água: | Resistividade ≥15-18,25 MΩ·cm |
|---|---|
| Taxa de Fluxo: | 25m³/H (Personalizável) |
| Componentes-chave: | Módulos de Membrana RO, Unidades EDI |
CE/ISO 5000LPH Purificador industrial de água para espectroscopia de absorção atómica AAS
| Taxa de Fluxo: | 5 m3/h (customizável) |
|---|---|
| Qualidade da água: | Resistividade (25°C) ≥ 18,24 MΩ·cm |
| Processos essenciais: | Osmose Reversa de Duplo Passe + EDI |
Equipamento de Água Ultra Pura 1000L/H para Preparação de Fase Móvel de Instrumentos de Precisão
| Taxa de Fluxo: | 1m³/h (Personalizável) |
|---|---|
| Resistividade: | ≥ 18,2 MΩ·cm @ 25°C (base) |
| Processos essenciais: | Osmose Reversa de Duplo Passe + EDI |
Sistemas de Água Ultra Pura Personalizáveis de 100 toneladas por hora para a Indústria de Baterias de Lítio
| Taxa de Fluxo: | 100 t |
|---|---|
| Qualidade da água: | Resistividade ≥ 10-18,25 MΩ·cm |
| Processos essenciais: | Osmose inversa de dupla passagem + EDI + resina de polimento |
Planta de Tratamento de Água Ultra Pura de 7 toneladas/h com Eficiência Energética para Fabricação de Wafer
| Taxa de Fluxo: | 7 m³/h (Personalizável) |
|---|---|
| Resistividade (25°C): | ≈ 18,24 MΩ·cm |
| Processos essenciais: | Osmose Reversa de Duplo Passe + EDI |
Sistema Industrial de Purificação de Água Ultrapura de Alta Capacidade 120m3/H para o Campo da Optoelectrónica
| Qualidade da água: | Resistividade ≥15-18,25 MΩ·cm |
|---|---|
| Taxa de Fluxo: | 120 m3/h (customizável) |
| Processos essenciais: | Osmose inversa de dupla passagem + EDI + resina de polimento |
Equipamento de água ultrapura de 80 t/h de alto desempenho para a produção de células fotovoltaicas
| Resistividade: | ≥18,18 MΩ·cm (25°C) |
|---|---|
| Taxa de Fluxo: | 80 m3/h (customizável) |
| Processos essenciais: | Osmose inversa de dupla passagem + EDI + resina de polimento |