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Apparecchiature industriali ad acqua ultra pura per litografia
| Luogo di origine | Shenzhen, Cina |
|---|---|
| Marca | HongJie |
| Certificazione | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
| Numero di modello | HJ-UPWSe50T |
| Quantità di ordine minimo | >=1 serie |
| Prezzo | US$44000~US$44500 |
| Imballaggi particolari | Cassa in legno standard di esportazione |
| Tempi di consegna | 1-7 giorni lavorativi (dipende dalla disponibilità di materie prime) |
| Termini di pagamento | L/C,D/P,T/T,Western union |
| Capacità di alimentazione | > 300 serie/mese |
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xDettagli
| Portata | 50m³/H (Personalizzabile) | Qualità dell'acqua | Resistenza ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C) |
|---|---|---|---|
| Processo di base | Osmosi inversa + EDI + Resina di finitura | Componenti chiavi | Moduli a membrana RO, unità EDI |
| Alimentazione elettrica | 380V/220V | Servizio Post-Vendita | garanzia di due anni |
| Modalità di funzionamento | Completamente automatico | Caratteristiche del prodotto | Qualità dell'acqua stabile,bassi costi operativi, prestazioni affidabili |
| TOC | < 0,5 ppb (necessità di fluido per immersione < 1 ppt) | Materia particellata | >0.05μm particelle <1 per mL |
| Evidenziare | Apparecchiature ad acqua ultra pura per la litografia,Apparecchiature per l'acqua ultra pura da 20 T/h,Macchina per acqua ultra pura su misura |
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Descrizione di prodotto
I.Visualizzazione
L'acqua ultrapura svolge un ruolo indispensabile e di fondamentale importanza nel processo di litografia.e acqua ultra pura di grado litografico serve come garanzia fondamentale per la continua evoluzione della Legge di MooreL'acqua ultrapura (UPW), con il suo contenuto di impurità estremamente basso, è un'acqua molto pura.è il mezzo ideale per soddisfare questi requisiti rigorosiLa sua massima purezza è la garanzia fondamentale per garantire modelli di litografia precisi e privi di difetti e alti rendimenti.
II.Processo
Raw water → Multi-stage filtration → Reverse osmosis (RO) → Electrodeionization (EDI) → UV-ozone synergistic oxidation → Membrane degassing → Dual-stage mixed-bed polishing → Terminal filtration → Nitrogen-sealed water tank
III.Parametri
| Parametro | Valore richiesto |
| Resistenza | ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C) |
| Carbonio organico totale (TOC) | < 0,5 ppb (necessità di fluido per immersione < 1 ppt) |
| Materia particellata | > 0,05 μm di particelle < 1 per ml |
| Ossigeno disciolto (DO) | < 5 ppb |
| Contenuto batterico | < 0,01 CFU/mL |
| Diossido di silicio (SiO2) | < 1 ppb |
| Ioni di boro/sodio | < 10 ppt |
IV.Scenari di applicazione
Pulizia dei wafer
Lavaggio post-sviluppo
Diluzione e preparazione di sostanze fotoresistenti/chimiche
Pulizia delle attrezzature e dei componenti
V. Ecco una guida per ottenere un preventivo adeguato
Ci dica l'acqua grezza/la fonte di acqua ((acqua del rubinetto, acqua di pozzo o acqua di mare, ecc.)
Fornire un rapporto di analisi dell'acqua ((TDS, conduttività o resistività, ecc.)
Capacità di produzione richiesta ((5m3/h, 50m3/h, o 500m3/h, ecc.)
A che cosa serve l'acqua pura (industriale, alimentare, agricola, ecc.)
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