dettagli dei prodotti

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Apparecchiature per l'acqua ultrapura
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Apparecchiature industriali ad acqua ultra pura per litografia

Apparecchiature industriali ad acqua ultra pura per litografia

Marchio: HongJie
Numero modello: HJ-UPWSe50T
Moq: >=1 serie
Prezzo: US$44000~US$44500
Termini di pagamento: L/C,D/P,T/T,Western union
Capacità di fornitura: > 300 serie/mese
Informazioni Dettagliate
Luogo di origine:
Shenzhen, Cina
Certificazione:
ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Portata:
50m³/H (Personalizzabile)
Qualità dell'acqua:
Resistenza ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C)
Processo di base:
Osmosi inversa + EDI + Resina di finitura
Componenti chiavi:
Moduli a membrana RO, unità EDI
Alimentazione elettrica:
380V/220V
Servizio Post-Vendita:
garanzia di due anni
Modalità di funzionamento:
Completamente automatico
Caratteristiche del prodotto:
Qualità dell'acqua stabile,bassi costi operativi, prestazioni affidabili
TOC:
< 0,5 ppb (necessità di fluido per immersione < 1 ppt)
Materia particellata:
>0.05μm particelle <1 per mL
Imballaggi particolari:
Cassa in legno standard di esportazione
Evidenziare:

Apparecchiature ad acqua ultra pura per la litografia

,

Apparecchiature per l'acqua ultra pura da 20 T/h

,

Macchina per acqua ultra pura su misura

Descrizione del prodotto

I.Visualizzazione
L'acqua ultrapura svolge un ruolo indispensabile e di fondamentale importanza nel processo di litografia.e acqua ultra pura di grado litografico serve come garanzia fondamentale per la continua evoluzione della Legge di MooreL'acqua ultrapura (UPW), con il suo contenuto di impurità estremamente basso, è un'acqua molto pura.è il mezzo ideale per soddisfare questi requisiti rigorosiLa sua massima purezza è la garanzia fondamentale per garantire modelli di litografia precisi e privi di difetti e alti rendimenti.

 

II.Processo
Raw water → Multi-stage filtration → Reverse osmosis (RO) → Electrodeionization (EDI) → UV-ozone synergistic oxidation → Membrane degassing → Dual-stage mixed-bed polishing → Terminal filtration → Nitrogen-sealed water tank

 

III.Parametri

Parametro Valore richiesto
Resistenza ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C)
Carbonio organico totale (TOC) < 0,5 ppb (necessità di fluido per immersione < 1 ppt)
Materia particellata > 0,05 μm di particelle < 1 per ml
Ossigeno disciolto (DO) < 5 ppb
Contenuto batterico < 0,01 CFU/mL
Diossido di silicio (SiO2) < 1 ppb
Ioni di boro/sodio < 10 ppt

 

IV.Scenari di applicazione
Pulizia dei wafer
Lavaggio post-sviluppo
Diluzione e preparazione di sostanze fotoresistenti/chimiche
Pulizia delle attrezzature e dei componenti

 

V. Ecco una guida per ottenere un preventivo adeguato
Ci dica l'acqua grezza/la fonte di acqua ((acqua del rubinetto, acqua di pozzo o acqua di mare, ecc.)
Fornire un rapporto di analisi dell'acqua ((TDS, conduttività o resistività, ecc.)
Capacità di produzione richiesta ((5m3/h, 50m3/h, o 500m3/h, ecc.)
A che cosa serve l'acqua pura (industriale, alimentare, agricola, ecc.)