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Sr. Wieslaw AlexMáquina de osmose reversa muito boa! O fornecedor oferece um serviço e suporte tecnológico excepcionais. Compra perfeita! -
Sr. Ismail HakkiEstamos a trabalhar com a Shenzhen Hongjie num projeto e, sem hesitação, podemos dizer que oferecem os melhores sistemas de filtragem de água da China.confiável, e oferece um desempenho consistente, quer para aplicações industriais, comerciais ou especializadas.
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Sr. James Watts.Uma boa empresa de tratamento de água! quando eu encontro alguns problemas, eles sempre podem me oferecer as soluções mais rápidas. muito profissional
Planta de Tratamento de Água Ultra Pura de 110m3/H para Limpeza de Bolachas de Silício com Módulo EDI
| Lugar de origem | Guangdong, China |
|---|---|
| Marca | HongJie |
| Certificação | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
| Número do modelo | HJ-UPWSe110T |
| Quantidade de ordem mínima | >= 1 conjunto |
| Preço | US$219200~US$224500 |
| Detalhes da embalagem | Caixa de madeira padrão de exportação |
| Tempo de entrega | 1-7 dias úteis (dependem da existência de matérias-primas) |
| Termos de pagamento | L/C,D/P,T/T,Western union |
| Habilidade da fonte | >300 conjuntos/mês |
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xDetalhes do produto
| Qualidade da água | Resistividade ≥≥ 18,18 MΩ·cm @ 25°C | Taxa de Fluxo | 110m³/H (Personalizável) |
|---|---|---|---|
| Processos essenciais | Osmose inversa de dupla passagem + EDI + resina de polimento | Componentes-chave | Módulos de Membrana RO, Unidades EDI |
| Fornecimento de eletricidade | 380 V | Serviço pós-venda | garantia de 2-ano |
| Modo de funcionamento | Totalmente automático | TOC | < 0,5 ppb |
| Partículas | ≤ 1 partícula/mL ((> 0,05 μm) | Oxigênio dissolvido | ≤2 ppb |
| Destacar | Tratamento de Água Ultra Pura de 110m3/H,Tratamento de Água Ultra Pura com Módulo EDI,Planta de Tratamento de Água de 110m3/H |
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Descrição de produto
Melhorar a Eficiência de Filtração: Planta de tratamento de água ultra pura de 110 m³/h para limpeza de wafers de silício com módulo EDI
I. Visão Geral
A água ultra pura é um componente essencial na limpeza de wafers de silício para alcançar uma produção eficiente de células fotovoltaicas com baixo defeito. Sua aplicação determina diretamente a limpeza da superfície do wafer de silício, o tempo de vida dos portadores minoritários e, em última análise, a eficiência da célula.
Regra geral da indústria: Para cada aumento de 10 vezes na pureza da água ultra pura usada na limpeza de wafers de silício, podem ser obtidos ganhos de eficiência da célula de até 0,15% — “A competitividade fotovoltaica começa com a primeira gota de água ultra pura.”
II. Processo
Carregamento do Wafer → Limpeza SC1 → Enxágue com Água Ultra Pura → Limpeza com Ácido HF → Enxágue com Água Ultra Pura → Limpeza SC2 → Enxágue Final com Água Ultra Pura → Secagem
III. Parâmetros
| Parâmetro | Valor Padrão | ||
| Resistividade | ≥18.18 MΩ·cm @ 25°C | ||
| TOC | <0.5 ppb | ||
| Na⁺/K⁺ | <0.1 ppt | ||
| Fe³⁺/Al³⁺ | <0.05 ppt | ||
| Cl⁻ | <0.1 ppb | ||
| Partículas >0.05 μm | ≤1 partícula/mL | ||
| Oxigênio Dissolvido | ≤2 ppb |
IV. Aqui está um guia para obter uma cotação adequada
Informe-nos a água bruta/fonte de água (água da torneira, água de poço ou água do mar, etc.)
Forneça o relatório de análise da água (TDS, condutividade ou resistividade, etc.)
Capacidade de produção necessária (5 m³/H, 50 m³/H ou 500 m³/H, etc.)
Para que a água pura é usada (industrial, alimentos e bebidas ou agricultura, etc.)
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